专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学元件-CN02807044.5无效
  • R·R·A·赛姆斯 - 马科尼英国知识产权有限公司
  • 2002-01-23 - 2004-06-02 - H01S5/14
  • 一种可调光学共振,该光学共振被用作包含一个空腔的滤光或可调激光,其中该空腔由反射光栅和反射来限定,其中反射光栅被固定于一个柔性支承,该共振还包含用于弯曲该柔性支承以使光栅模拟围绕选定点的旋转的装置如上所述的一种微型机械可调共振提供无模跳跃的调节。
  • 光学元件
  • [发明专利]包含多层反射的光学设备和垂直腔面发射激光-CN200710147710.7有效
  • 竹内哲也 - 佳能株式会社
  • 2007-08-24 - 2008-02-27 - H01S5/183
  • 公开了一种光学设备,包括具有光学厚度不为λ/4的层的多层反射,以及一种使用这种光学设备的垂直腔面发射激光。能够抑制由λ/4光学厚度的偏差造成的共振频率偏移或反射率下降,从而改善性能和产量。用于产生波长λ的光的光学设备包括反射和活性层。反射为半导体多层反射,包含被交替层压并具有不同折射率的第一层和第二层。第一层具有小于λ/4的光学厚度。第二层具有大于λ/4的光学厚度。在第一层和第二层之间的界面位于既不在反射内光强分布的波节的位置也不在波腹的位置。
  • 包含多层反射光学设备垂直发射激光器
  • [发明专利]无电极照明灯的光输送装置-CN200410094049.4无效
  • 朴相俊 - 乐金电子(天津)电器有限公司
  • 2004-12-27 - 2006-07-05 - H01J65/00
  • 一种无电极照明灯的光输送装置,该无电极照明灯是由以下几个部分构成:内面具有一定曲率的曲面的反射;与共振一同设置于反射的内部,根据该共振中产生的电场,使内部填充的物质产生等离子体,从而发出光线的无电极照明灯;覆盖反射,并按一定长度延长,引导无电极照明灯中发出的光的光导管;光导管中,将光放射到外部的那一面,安装有全息光学膜,该全息光学膜可以根据不同的图案得到多种的光的分布形态。
  • 电极照明灯输送装置
  • [发明专利]一种微型核磁共振陀螺仪气室-CN201610385136.8在审
  • 汪宝旭;朱明智;苏瑞峰;陈刚 - 中国工程物理研究院总体工程研究所
  • 2016-06-03 - 2016-09-28 - G01C19/62
  • 本发明提供了一种微型核磁共振陀螺仪气室,所述的核磁共振陀螺仪气室中的微型气室由下封装玻璃、气室基板、上封装玻璃、工作介质组成;微型反射由四块外形和尺寸均相同的微型反射镜组成。本发明的一种微型核磁共振陀螺气室,通过微细加工方法可以实现毫米级或者亚毫米级尺度的微型气室;采用微型反射能够引导探测光线,实现核磁共振陀螺仪中泵浦光源与光电探测在气室同侧布置,以利于整个仪器的小型化本发明的微型核磁共振陀螺仪气室具有体积微小、结构紧凑,不存在内壁镀膜困难和膜层材料选择受限的问题,气室制备方法与工艺简单的特点。
  • 一种微型核磁共振陀螺仪
  • [实用新型]一种微型核磁共振陀螺仪气室-CN201620528522.3有效
  • 汪宝旭;朱明智;苏瑞峰;陈刚 - 中国工程物理研究院总体工程研究所
  • 2016-06-03 - 2016-11-23 - G01C19/62
  • 本实用新型提供了一种微型核磁共振陀螺仪气室,所述的核磁共振陀螺仪气室中的微型气室由下封装玻璃、气室基板、上封装玻璃、工作介质组成;微型反射由四块外形和尺寸均相同的微型反射镜组成。本实用新型的一种微型核磁共振陀螺气室,通过微细加工方法可以实现毫米级或者亚毫米级尺度的微型气室;采用微型反射能够引导探测光线,实现核磁共振陀螺仪中泵浦光源与光电探测在气室同侧布置,以利于整个仪器的小型化本实用新型的微型核磁共振陀螺仪气室具有体积微小、结构紧凑,不存在内壁镀膜困难和膜层材料选择受限的问题,气室制备方法与工艺简单的特点。
  • 一种微型核磁共振陀螺仪
  • [发明专利]掩模检查装置-CN202080007200.3在审
  • 米泽良 - 株式会社V技术
  • 2020-02-03 - 2021-08-06 - G03F1/84
  • 能够防止反射共振而防止伪缺陷的产生。在对被检查对象的掩模沿大致铅垂方向进行保持的大致框状的框架的侧面设置的保持构件具有:中空的棒状构件,其沿水平方向延伸设置;第一安装部,其将棒状构件安装于框架;以及第二安装部,其设置有反射。在设置于平台的柱设置有光照射部,该光照射部配置在与反射大致相同的高度并朝向反射沿大致水平方向照射光。
  • 检查装置

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