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- [实用新型]可调式制程腔体结构-CN201120046664.3无效
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游中志;张仑峰
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富临科技工程股份有限公司
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2011-02-24
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2011-11-02
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C23C14/34
- 一种可调式制程腔体结构包括:一主制程腔体,具有一内侧表面;一固定装置,设置于主制程腔体的内部,以架设一被镀物;复数个子制程腔体,设置于主制程腔体的内部;以及复数个可调式支撑装置,设置于主制程腔体的内侧表面,承载子制程腔体。而每一可调式支撑装置包含:滑轨装置;柱体;支撑架及平移装置;其中,每一可调式支撑装置用以调整其所承载的子制程腔体与被镀物的相对位置。因此,本实用新型的可调式制程腔体结构,可控制制程腔体内的气体,防止气体相互污染,并可依制程上的需要调整子制程腔体与被镀物的相对位置。
- 调式制程腔体结构
- [发明专利]干刻蚀装置及干刻蚀方法-CN201711115335.8在审
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肖文欢
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武汉华星光电半导体显示技术有限公司
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2017-11-13
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2018-03-16
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H01L21/67
- 本发明公开了一种干刻蚀装置,包括制程腔、排气组件以及测压组件,制程腔用以对待加工组件进行干刻蚀制程作业,排气组件用以排出干刻蚀制程中产生的制程生成物,测压组件用以实时监测制程腔中的压强;所述测压组件安装在制程腔上,所述干刻蚀装置还包括设置在所述测压组件与所述制程腔的连接处的套管,所述套管用以防止干刻蚀制程中产生的制程生成物流入测压组件内。本发明的干刻蚀装置,通过套管捕集制程生成物流入测压组件,从而避免测压组件受制程生成物的影响而出现零点漂移、维护周期短、检修成本高等问题;并且测压组件的从安装在排气组件上转到制程腔上,减少制程生成物沉积对测压组件的影响
- 刻蚀装置方法
- [发明专利]控制程序运行方法-CN201780091189.1有效
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卢熙泰;林载焕;赵忠建
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LS产电株式会社
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2017-08-09
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2023-03-28
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G05B23/02
- 本发明涉及控制程序运行方法。本发明的一实施例的控制程序运行方法在安装有用于管理控制对象装置的下位控制程序及用于运行所述下位控制程序的上位控制程序中的至少一种控制程序的终端装置中执行,其中,所述控制程序运行方法包括:从用户输入所述上位控制程序的运行请求的步骤;在基于所述运行请求运行的所述上位控制程序中搜索所述控制对象装置的步骤;利用搜索到的所述控制对象装置的识别信息来搜索与所述识别信息对应的所述下位控制程序的步骤;以及将搜索到的所述下位控制程序及所述控制对象装置进行通信连接的步骤;所述下位控制程序在所述上位控制程序运行之后依次地运行。
- 控制程序运行方法
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