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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]可调式制程腔体结构-CN201120046664.3无效
发明人：游中志;张仑峰 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2011-02-24 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种可调式制程腔体结构包括：一主制程腔体，具有一内侧表面；一固定装置，设置于主制程腔体的内部，以架设一被镀物；复数个子制程腔体，设置于主制程腔体的内部；以及复数个可调式支撑装置，设置于主制程腔体的内侧表面，承载子制程腔体。而每一可调式支撑装置包含：滑轨装置；柱体；支撑架及平移装置；其中，每一可调式支撑装置用以调整其所承载的子制程腔体与被镀物的相对位置。因此，本实用新型的可调式制程腔体结构，可控制制程腔体内的气体，防止气体相互污染，并可依制程上的需要调整子制程腔体与被镀物的相对位置。
调式制程腔体结构

[实用新型]镀膜窗-CN201120047545.X无效
发明人：游中志;张仑峰 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2011-02-24 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C23C14/52 文献下载
摘要：本实用新型是关于一种镀膜窗包括：一框架，具有一上边框、一下边框、一右边框、及一左边框；二遮板，包含有一左遮板及一右遮板；以及多个锁附孔，开设于上边框及下边框的左右两端、左遮板、及右遮板；其中，框架的上边框、下边框、右边框、及左边框形成一窗口，左遮板及右遮板分别以至少一锁固元件固定在开设于上边框与下边框的锁附孔，并通过调整左遮板及右遮板固定的位置而调整窗口的大小，由此配合被镀基材的尺寸的改变而改变窗口的宽幅。
镀膜

[实用新型]柱状电极-CN201020194920.9无效
发明人：杨宏河;林伟德;张元铭;廖泯谚;孙湘平 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2010-05-11 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种柱状电极，包括：中空外壳体；中空内壳体，配置于中空外壳体内，中空内壳体与中空外壳体之间形成一冷却腔，中空内壳体内具有中空内腔体；磁石布设于中空内壳体的中空内腔体内；托座，其中，中空外壳体以及中空内壳体组设于托座上；第一输液管连通至冷却腔；以及第二输液管，连通至冷却腔。本实用新型的柱状电极，利用中空内壳体而将中空外壳体内的空间分隔，形成一独立的冷却腔以及中空内腔体，并使冷却水仅于接近中空外壳体表面的冷却腔内流动，因此可提高冷却效率，并同时提升电极的性能。
柱状电极

[实用新型]柱状电极靶材装置-CN201020194925.1无效
发明人：杨宏河;林伟德;张元铭;廖泯谚;孙湘平 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2010-05-11 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是有关于一种柱状电极靶材装置，其包括：中空柱状电极壳体，具有一内腔体；靶材，围绕中空柱状电极壳体的外侧而配置；托座，其中，中空柱状电极壳体是组设于托座上；第一管，部份配置于内腔体中，且与内腔体连通；第二管，是连通至内腔体；多个磁石支撑件，是容置于内腔体中，并围绕第一管而配置；以及多个磁石阵列，与磁石支撑件连接；其中，每一磁石支撑件配置有一组磁石阵列。本实用新型的柱状电极靶材装置中，磁石阵列是配置于磁石支撑件，因此可自由调动，故相较于已知的柱状电极靶材装置更可达到磁场均匀分布的效果。
柱状电极装置

[实用新型]溅镀机构以及包含其的溅镀装置-CN200920268882.4无效
发明人：林伟德;杨宏河;孙湘平;张元铭;廖泯谚 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2009-11-05 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种溅镀机构以及包含有此溅镀机构的溅镀装置，溅镀机构包括：多数个电极靶材单元，配置于同一平面，每一电极靶材单元的同一侧配置有至少一第一磁场单元；以及多数个平移装置；其中，每一第一磁场单元独立配置有平移装置，且第一磁场单元包括有至少一磁石以及第一磁石支撑座，至少一磁石以及第一磁石支撑座互相连接。本实用新型的溅镀机构中，磁石滑动方式由传统中所有磁石组相连接改为可独立作动，可使磁场单元作用模式更具变化性，更提高溅镀成膜的均匀性。
机构以及包含装置

[实用新型]等离子体辅助化学气相沉积装置-CN200920008308.5无效
发明人：林伟德;罗顺远;陈友凡;杨宏河;孙湘平 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2009-03-26 - 公布日： 2010-04-28 - 主分类号： C30B25/00 文献下载
摘要：一种等离子体辅助化学气相沉积装置，包括：反应腔、承载板、电极、多个电极支撑件、进气装置、以及排气装置。高度调整件配置于反应腔外。承载板与电极互相对应并配置于反应腔内。电极支撑件位于电极的一侧并抵顶电极，并穿出反应腔而连接至高度调整件。进气装置及排气装置分别连接至反应腔。本实用新型的等离子体辅助化学气相沉积装置，由于承载板为固定式的设计，因此反应腔下方机械体积可得到大幅减少，可使等离子体辅助化学气相沉积装置整体厚度下降，可利用多出的空间堆叠多个处理腔进行批次工艺，有效的大幅提升产能。
等离子体辅助化学沉积装置

[实用新型]一种偏压式等离子源以及包含其的等离子处理机构-CN200820176675.1无效
发明人：林伟德;罗顺远;刘家齐;吕练勤;蔡振源;詹信义;陈照奕;吴祐安 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2008-11-10 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种偏压式等离子源以及包含其的等离子处理机构，其有关一种偏压式等离子源，其包括：一电极盘、一支撑体、一旋转连接器、以及一导线。其中，电极盘配置于支撑体上方，旋转连接器配置于支撑体下方，且导线将旋转连接器以及电极盘电性连接。本实用新型亦有关一种包含上述偏压式等离子源的等离子处理机构，其偏压式等离子源的电极盘可旋转，因此当使用于等离子处理机构中时，可达到反应腔内增进气场均匀分布的效用，进而增加等离子处理的效能。
一种偏压离子源以及包含等离子处理机构

[实用新型]整合式等离子体处理机构-CN200820175773.3无效
发明人：林伟德;罗顺远;刘家齐;杨宏河 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司
申请日： 2008-10-28 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型一种整合式等离子体处理机构，其包括：一反应腔、一载盘、以及至少一等离子体源。其中，反应腔包括一底板、一顶板、以及围绕反应腔的一周壁，周壁具有一侧窗以及一进料门，侧窗向外延伸有一侧室，侧室具有一侧壁，且反应腔具有一进气口以及一排气口。并且载盘是配置于底板之上。本实用新型的整合式等离子体处理机构可同时装配多种等离子体源供应器于其中，加上其独特具有的圆筒型反应腔，能增进工艺气体的良好流场散布，使反应腔内的等离子体分布更为均匀，进而使清洁效果更为提升。
整合等离子体处理机构

[发明专利]玻璃废料流体传输系统-CN200610058882.2无效
发明人：林伟德;陈韦华;曾能郁;谢振川 -专利权人： 富临科技工程股份有限公司;泽宇科技股份有限公司
申请日： 2006-03-08 - 公布日： 2007-09-12 - 主分类号： B65G53/06 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于无尘室中的玻璃废料流体传输系统。玻璃废料经由鼓风机以低压中速吹送于双层管路，并可加装压力表监测管路的情况。此系统适合于现有厂房设计的加装，且不受到长距离管路或弯角的限制，其密闭的输送管路不会造成工作环境的污染，特别可针对现行光电厂无尘室来做设计，且直接使用回收的玻璃废料，节省其它程序又符合环保观念。
玻璃废料流体传输系统

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