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[发明专利]一种光产酸剂及其制备方法和应用-CN201611122773.2有效
发明人：邓海;彭彧 -专利权人：复旦大学
申请日： 2016-12-08 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C08F8/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种光产酸剂及其制备方法和应用。具体地，本发明公开了一种光产酸剂，所述光产酸剂包含高分子骨架和结合于所述高分子骨架上的产酸活性基团，并且，在所述光产酸剂中，50‑100wt％的所述产酸活性基团位于所述高分子骨架的末端。本发明还公开了所述光产酸剂的制备方法和应用。由于所述光产酸剂采用高分子骨架且所述产酸活性基团基本位于所述高分子骨架的末端，因此所述光产酸剂具有高的量子效率、高的产酸效率、低的扩散且分解产物挥发性小的优点。
一种光产酸剂及其制备方法应用

[发明专利]用于电子基平版印刷术的高灵敏性抗蚀剂组合物-CN02829997.3有效
发明人：黄武松;李文杰;韦恩·莫若;戴维·E·梅代罗斯;卡伦·E·皮特里洛;罗特伯特·N·兰;玛丽·安杰洛波洛斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2002-12-05 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种抗蚀剂组合物，其具有酸敏性成像聚合物和辐射敏感性产酸剂组分，该辐射敏感性产酸剂组分包括：(i)第一辐射敏感性产酸剂，其选自抑制溶解的产酸剂，和(ii)第二辐射敏感性产酸剂，其选自不受保护的酸基官能化产酸剂和受酸不稳定基团保护的酸基官能化辐射敏感性产酸剂；这种组合物能够形成适用于EPL、EUV、软X射线和其他能量强度低的平版印刷成像领域的高灵敏性抗蚀剂。这些抗蚀剂组合物还可用在其他平版印刷方法中。
用于电子平版印刷术灵敏性抗蚀剂组合

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜、层叠体和图案形成方法-CN202080050683.5在审
发明人：林久美子;曾我恭子 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)含有有机硅骨架的聚合物和(B)光致产酸剂，(B)光致产酸剂包含(B1)鎓盐光致产酸剂和(B2)鎓盐以外的光致产酸剂。
感光性树脂组合层叠图案形成方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN201980039802.4在审
发明人：小岛雅史;上村稔;川岛敬史;后藤研由;山本庆;丸茂和博;王惠瑜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]一种光致产酸剂及其制备方法、光刻胶-CN202310702939.1在审
发明人：岳力挽;刘克;李艳秋;夏力 -专利权人：北京理工大学;宁波南大光电材料有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本申请适用于光刻胶领域，具体公开一种光致产酸剂及其制备方法、以及应用该光致产酸剂的光刻胶。本申请的光致产酸剂可控制光酸的扩散距离以及光酸产生的扩散系数，从而控制光刻胶形貌的边缘粗糙度，提高光刻胶的分辨率；同时该光致产酸剂还可以避免曝光不足的问题。
一种光致产酸剂及其制备方法光刻

[发明专利]产酸剂、磺酸、磺酰卤、和辐射敏感树脂组合物-CN200480011348.5有效
发明人：江幡敏;王勇;西村功 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2004-02-20 - 公布日： 2006-05-31 - 主分类号： C07C309/23 文献下载
摘要：本发明提供一种新型产酸剂，其在可燃性和人体内积累方面没有问题，可产生高酸度、高沸点、在抗蚀涂膜内的扩散长度适度短的酸而且可形成对掩模图案密度的依赖性低而平滑度好的抗蚀图；由该产酸剂产生的磺酸；适合在所述产酸剂的合成中作为原料的磺酰卤化合物；和包含所述产酸剂的辐射敏感树脂组合物。所述产酸剂有通式(I)所示结构，其中R¹为一价取代基如烷氧羰基、烷磺酰基、或烷氧磺酰基；R²至R⁴均为氢或烷基；k为0或更大的整数，n为所述辐射敏感树脂组合物中，正性的除上述产酸剂之外还包含有可酸解离基团的树脂，而负性的除所述产酸剂之外还包含碱溶性树脂和交联剂。
产酸剂磺酸磺酰卤辐射敏感树脂组合

[发明专利]光产酸剂-CN202180005348.8在审
发明人：木村秀基;白石笃志 -专利权人：三亚普罗股份有限公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供在光固化性组合物、化学增幅型负型光致抗蚀剂组合物中有用的光产酸剂，其是对这些组合物的耐黄变性有用的有用的光产酸剂。本发明的光产酸剂的特征在于，其含有下述通式(1)所表示的锍盐(CA)和通式(2)所表示的化合物(S)，在设利用高效液相色谱(HPLC)测定锍盐(CA)和化合物(S)的总量时的锍盐(CA)和化合物(S)的总面积为
光产酸剂

[发明专利]琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、负性光刻胶组合物-CN201710855118.6在审
发明人：黄巍;季昌彬 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： C08F8/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、以及使用该琥珀酰亚胺改性的树脂的负性光刻胶组合物；其包括琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂、在射线照射下可产生强酸的产酸剂、在酸以及辅助加热作用下迅速与成膜树脂交联的交联剂、用于减弱产酸剂产酸作用的光吸收剂和/或用于减弱产酸剂产酸作用的产碱剂或有机强碱。
琥珀亚胺改性丙烯酸树脂及其制备方法光刻组合

[发明专利]可深层固化的UV变黑色胶黏剂-CN202110634656.9有效
发明人：刘锋;霍应鹏;陈燕舞;肖瑞雄;洪丹;刘明宇 -专利权人：顺德职业技术学院
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C09J175/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种可深层固化的UV变黑色胶黏剂，特点是包括荧烷类丙烯酸酯单体、光致产酸剂、胺类化合物、丙烯酸树脂、稀释剂、交联剂、光引发剂、硅烷偶联剂和填料，其中荧烷类丙烯酸酯单体、光致产酸剂、胺类化合物、丙烯酸树脂、稀释剂、交联剂、光引发剂、硅烷偶联剂和填料的重量比是1：1‑2：0.1‑2：10‑100：2‑20：1‑10：0.1‑4：0.005‑0.02：0.1‑5。其优点是：固化之前呈现透明或者淡黄色通透的效果，保障UV光能够深度照射，从而引发其中的UV引发剂产生自由基引发胶黏剂中的活性官能团固化，同时由于胶粘体系中加入了光致产酸剂，UV光引发光致产酸剂产酸，促进染料变色成黑色
深层固化 uv 黑色胶黏剂

[发明专利]N－羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯类光产酸剂及其合成方法-CN200410039318.7无效
发明人：王力元;王文君;张改莲 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2004-01-19 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： C07D471/08 文献下载
摘要：本发明涉及一类作为光产酸剂的N－羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯及其合成方法。这类光产酸剂的结构中具有N－羟基酰亚胺磺酸酯部分，因而具有光产酸性。本发明的光产酸剂在常用溶剂中具有很好的溶解性。用不含芳环的磺酰氯制得的这一类光产酸剂在193nm处有很好的透明性，适用于ArF(193nm)光刻胶。其另一个特点是具有酸解离基团。其原料易得，合成方法也比较简便。
羟基马来海松亚胺磺酸酯类光产酸剂及其合成方法

[发明专利]感光性组合物、固化物以及活性光线固化物的制造方法-CN201280012001.7有效
发明人：元藤梓平;樋口晋太郎;德永浩信;向井孝夫;大高刚史;水野雄介;进藤康裕;松本英嗣 -专利权人：三洋化成工业株式会社
申请日： 2012-03-06 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： C08F2/44 文献下载
摘要：一种感光性组合物，其为含有下述(1)～(3)的感光性组合物，其特征在于，自由基引发剂(A)、产酸剂(B)和产碱剂(C)中的至少一者通过活性光线的照射而产生活性种(H)，该活性种(H)与自由基引发剂(A)、产酸剂(B)或产碱剂(C)反应而生成新的活性种(I)，该新的活性种(I)引发聚合性物质(D)进行聚合反应，该活性种(H)或(I)为酸或碱，实质上不含有着色剂、金属氧化物粉末和金属粉末中的任何物质。(1)自由基引发剂(A)，(2)产酸剂(B)和/或产碱剂(C)，(3)聚合性物质(D)。
感光性组合固化以及活性光线制造方法

[发明专利]光致产酸剂及其制备方法-CN202111204968.2在审
发明人：傅志伟;潘新刚;梅崇余;纪兴跃 -专利权人：江苏汉拓光学材料有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C07C309/17 文献下载
摘要：本发明公开了一种光致产酸剂及其制备方法，属于有机合成技术领域。所述光致产酸剂的结构通式如下：产酸剂的制备方法为由化合物Ⅲ与化合物Ⅱ经离子交换在第一溶剂中反应，纯化得到光致产酸剂Ⅰ。本发明合成一种新的光致产酸剂且合成方法收率高、纯度高。
光致产酸剂及其制备方法

[发明专利]多官能光致产酸剂和包含其的用于厚层的化学增幅型光致抗蚀剂组合物-CN201880013367.3有效
发明人：林敏映;李泰燮;朴贤旻 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其中光致产酸剂具有优异的溶解度和感光度，并且除了作为光致产酸剂的效果之外，还具有抗腐蚀效果。因此，包含所述光致产酸剂的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物减少了在显影之后在曝光部分处的浮渣和/或基脚。光致产酸剂由以下化学式1表示。在化学式1中，各取代基的限定与说明书的详细描述相同。
官能光致产酸剂包含用于化学增幅型光致抗蚀剂组合

[发明专利]高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用-CN202211266580.X在审
发明人：林书玮;俞灏洋;马骥;季昌彬 -专利权人：瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司
申请日： 2022-10-15 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C07C309/65 文献下载
摘要：本发明公开一种i线高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用，所述高产酸肟磺酸酯类光产酸剂感光度高，溶解性、热稳定性和化学稳定性更具优势，所述肟磺酸酯类光产酸剂具有通式（I）所示结构：
高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合应用

[发明专利]具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶-CN201610669564.3有效
发明人：陈彦豪;王建惟 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-08-15 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：光刻胶包括聚合物以及光生酸剂。光生酸剂包括感光剂组分、产酸剂组分和键合所述感光剂组分与所述产酸剂组分的键合组分。键合组分可为单键或共轭键。光刻工艺可为EUV光刻工艺或电子束光刻工艺。本发明涉及一种具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶。
具有键合至产酸剂感光剂光刻

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