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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种光刻胶用树脂及其制备方法及用该树脂制得的光刻胶-CN202211266195.5有效
发明人：郑祥飞;徐亮;季昌彬;马骥 -专利权人：瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司
申请日： 2022-10-15 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C08F220/28 文献下载
摘要：本申请涉及光刻技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻胶用树脂及其制备方法及用该树脂制得的光刻胶。本申请涉及的一种光刻胶用树脂包括如下比例的各组分：N‑取代的马来酰亚胺单体2～10mol%、A单体40～55mol%、B单体43～50mol%。本申请涉及的一种光刻胶用树脂的制备方法包括：溶解、加热反应、清洗、烘干等步骤。本申请涉及的一种光刻胶包括如下各组分：光刻胶用树脂、光致产酸剂、碱性添加剂、第三溶剂。本申请的光刻胶具有良好的耐热性、粘附性和耐蚀刻性能。
一种光刻树脂及其制备方法

[发明专利]高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用-CN202211266580.X在审
发明人：林书玮;俞灏洋;马骥;季昌彬 -专利权人：瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司
申请日： 2022-10-15 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C07C309/65 文献下载
摘要：本发明公开一种i线高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用，所述高产酸肟磺酸酯类光产酸剂感光度高，溶解性、热稳定性和化学稳定性更具优势，所述肟磺酸酯类光产酸剂具有通式（I）所示结构：。
高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合应用

[发明专利]一种含六氟异丙醇单体共聚物及其制备方法和化学增幅型光刻胶、应用-CN202211019961.8在审
发明人：郑祥飞;陈韦帆;徐亮;季昌彬 -专利权人：瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C08F212/14 文献下载
摘要：本申请涉及化学增幅型光刻胶技术领域，具体公开了一种含六氟异丙醇单体共聚物及其制备方法和化学增幅型光刻胶、应用。一种含六氟异丙醇单体共聚物，主要由A单体、B单体聚合制得；所述A单体内含有碱溶解性基团；所述B单体的结构式为：本申请的含六氟异丙醇单体共聚物可用于正型化学增幅型光刻胶制备，其具有图像形貌好、不产生T‑top等形貌缺陷的优点。
一种含六氟异丙醇单体共聚物及其制备方法化学增幅光刻应用

[发明专利]耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法-CN202111650156.0在审
发明人：陈韦帆;黄巍;徐亮;季昌彬 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本申请涉及光刻胶的领域，具体公开了一种耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法。耐刻蚀KrF光刻胶，包括成膜树脂，所述成膜树脂包括羟基苯乙烯‑苯乙烯‑丙烯酸叔丁酯‑丙烯酸铝四元共聚物。耐刻蚀KrF光刻胶的制备方法，包括：取成膜树脂溶于光刻胶溶剂中；取光致酸产生剂、有机碱加入溶有所述成膜树脂的光刻胶溶剂中，混合均匀，得到光刻胶粗品；将所述光刻胶粗品通过聚四氟乙烯膜过滤，而得到光刻胶成品。本申请所得光刻胶表现出良好的光刻精度和理想的耐刻蚀性。本申请通过含金属铝的丙烯酸化合物和羟基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯的共聚和协同配合，利用金属铝的保护作用，能够有效地提高成膜树脂的耐刻蚀能力。
刻蚀 krf 光刻制备方法

[发明专利]琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、负性光刻胶组合物-CN201710855118.6在审
发明人：黄巍;季昌彬 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： C08F8/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、以及使用该琥珀酰亚胺改性的树脂的负性光刻胶组合物；其包括琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂、在射线照射下可产生强酸的产酸剂、在酸以及辅助加热作用下迅速与成膜树脂交联的交联剂、用于减弱产酸剂产酸作用的光吸收剂和/或用于减弱产酸剂产酸作用的产碱剂或有机强碱。所述负性光刻胶组合物的感光范围在350nm～420nm，可用混合线、i‑line光源曝光；得益于琥珀酰亚胺改性后的树脂的优良耐热性，所述负性光刻胶组合物在耐热和分辨率上均具有较好的表现，可用于高分辨率i线负性光刻胶组合物。
琥珀亚胺改性丙烯酸树脂及其制备方法光刻组合

[发明专利]正性光刻胶-CN201711003755.7在审
发明人：徐亮;季昌彬 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-10-24 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了一种正性光刻胶,其特征在于包括如下成分1份～20份酚醛树脂、1份～3份醚化三聚氰胺树脂、3份～8份重氮类光敏剂、0.01份～1份酸类、40份～60份极性溶剂。所述正性光刻胶通过加入醚化三聚氰胺树脂，在有机强酸等酸类的作用下，通过加热实现预固化，使得该正性光刻胶在未经HMDS处理的亲水性衬底表面有超高粘附性，尤其是二氧化硅表面有良好的粘附能力，可以简化IC芯片等制造的流程、降低制造成本和人员伤害。
光刻

[发明专利]一种低热膨胀系数高分辨率正性光敏聚酰亚胺组合物-CN201510996585.1在审
发明人： 季昌彬;徐亮 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2015-12-23 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： C08L79/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种低热膨胀系数高分辨率的正性光敏聚酰亚胺(PSPI)组合物，属于集成电路封装材料领域。本发明组合物中，聚酰亚胺溶液由4，4’-六氟异丙基邻二甲酸酐(6FDA)、2，2’-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷(HFBAPP)、4，4’-二胺基二苯醚(ODA)经催化剂共聚而成，添加重氮萘醌酯化类光敏剂、添加剂、溶剂搅拌均匀后得到低CTE(≤15×10^-6/℃)，高分辨率(3um L/S＝1∶1)的高性能正性PSPI组合物。
一种低热膨胀系数高分辨率光敏聚酰亚胺组合

[发明专利]一种以三聚氰胺和腰果酚改性的酚醛树脂为基体的高感光性光刻胶组合物-CN201510014391.7在审
发明人： 季昌彬 -专利权人：苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2015-01-08 - 公布日： 2015-05-27 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明公开了一种以三聚氰胺和腰果酚改性的酚醛树脂为基体的高感光性光刻胶组合物的制备方法，属于高分子材料光刻技术领域。既可以解决现有的等离子干法蚀刻胶膜耐热性不足的缺陷，又通过增强感光性能提高曝光效率。本发明通过添加三聚氰胺和腰果酚改性过后的酚醛树脂、感光剂、增感剂、添加剂和溶剂按一定比例调配而成。本发明制备方法简单，体系相容性较好，通过三聚氰胺和腰果酚改性的优点，改善了酚醛树脂的韧性和耐热性，再通过添加一定比份的化学增感剂改善了感光性能，从而同时提高了该款紫外正性光刻胶良好的耐热性和高感光性能，拓宽了该款光刻胶的应用领域。
一种三聚腰果改性酚醛树脂基体感光性光刻组合

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