专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]化合物随机存取内存及其制造方法-CN200410097103.0有效
  • 薛铭祥;陈士弘 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2004-12-07 - 2006-06-14 - H01L45/00
  • 一种化合物随机存取内存的制造方法是先提供已有下电极的基底,再于基底上依序形成化合物层及相对于上述下电极的图案化掩模,再利用图案化掩模,对化合物层进行离子注入制程,使部分化合物层转变成改质区,并确保图案化掩模底下的化合物层没有被掺杂物质注入,而使其成为未改质区,其中改质区的传导率低于未改质区的传导率。因为利用如离子注入制程的改质处理,故可缩小化合物层与下电极间的接触面积,进而降低化合物随机存取内存的操作电压。
  • 化合物随机存取内存及其制造方法
  • [发明专利]一种纳米半导体光折变薄膜材料及其制备方法-CN201610959284.6有效
  • 曹文田 - 山东师范大学
  • 2016-11-03 - 2018-10-26 - C23C14/18
  • 本发明公开了一种纳米半导体光折变薄膜材料及其制备方法,纳米半导体光折变薄膜材料,包括金属薄膜和铅的化合物薄膜,所述金属薄膜的一面与铅的化合物薄膜的一面接触,其中,所述金属薄膜的金属的功函数大于等于所述铅的化合物薄膜半导体的电子亲合能,或所述金属薄膜与所述铅的化合物薄膜的接触界面形成肖特基结。制备方法,在衬底上生长一层透明的金属薄膜,然后在所述金属薄膜上生长一层铅的化合物薄膜半导体材料。本发明采用金属薄膜与铅的化合物薄膜接合,并在用金属薄膜与铅的化合物薄膜的界面形成肖特基结,从而在薄膜内形成内建电场,对光生载流子移动和再分布,不需外加电场,完全达到光折变材料应用目的。
  • 一种纳米半导体折变薄膜材料及其制备方法
  • [发明专利]一种晶圆级过渡金属化合物单晶生长的方法-CN202010036398.X有效
  • 张艳锋;杨鹏飞;潘双嫄 - 北京大学
  • 2020-01-14 - 2021-01-08 - C30B29/46
  • 本发明公开了一种晶圆级过渡金属化合物单晶生长的方法,所述方法包括以下步骤:1)将金箔置于钨箔上,熔融后固化,得到单晶金(111);2)将过渡金属氧化物粉末放置在金(111)/钨基底正下方;3)将单质放置于基底的上游;4)通入氩气,将基底和单质分别加热至不同温度,之后恒温,数分钟后在基底上生长得到单一取向的单层过渡金属化合物,延长时间即可得到晶圆级单晶过渡金属化合物单层薄膜。本发明以金(111)作为生长基底,外延生长单晶过渡金属化合物薄膜,能够通过控制过渡金属化合物的畴区取向,实现同一取向畴区的无缝拼接,是一种实现晶圆级单层过渡金属硫化物单晶的方法。
  • 一种晶圆级过渡金属化合物生长方法
  • [发明专利]一种析氢反应催化剂及其制备方法-CN201510447275.4在审
  • 雷周玥;徐胜杰;武培怡 - 复旦大学
  • 2015-07-28 - 2015-11-18 - B01J27/057
  • 本发明的析氢反应催化剂是一种过渡金属化合物及其氧化物的纳米片层复合材料;本发明通过在超声剥离的过程中加入双氧水,将过渡金属化合物剥离为部分氧化的纳米片层;得到的纳米片层仍保留有过渡金属化合物本身的维晶体结构,保持过渡金属化合物本身较高的电子传输效率,另外其部分氧化的缺陷结构为析氢反应提供了更多的催化活性位点,增大了催化剂的催化活性位点的面积密度,从而最终提高催化剂的催化活性。
  • 一种反应催化剂及其制备方法

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