[发明专利]X射线聚束光刻法及其装置无效
| 申请号： | 91103079.4 | 申请日： | 1991-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN1067121A | 公开（公告）日： | 1992-12-16 |
| 发明（设计）人： | 颜一鸣 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/213 | 分类号： | G03F7/213;H05G2/00;G02B6/06 |
| 代理公司： | 北京师范大学专利事务所 | 代理人： | 华明达,吴圣谷 |
| 地址： | 100875*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 从金属等离子体中发射的脉冲X射线，一部分进入由玻璃光导管组成的聚束透镜，其收集角达10—30°，玻璃光导管内径360μm，两端为直线段，中部为曲线段。X射线进入光导管后在管壁上多次全反射，最后以准平行光出射。数千根光导管按照收集角的要求及照野大小排列成阵，改变其长度和位置分布可以得到均匀照野或特定要求的照野。从聚束器出射的X射线，经过一段距离的交叉混合形成均匀分布的准平行束，投射到光刻工作台上，将掩膜上的图形投影到晶片的光刻胶层上，完成亚微米光刻过程。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 光刻 及其 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于微电子器件亚微米光刻的方法，该方法是由等离子体产生X射线，投射到带有掩膜和光刻胶的晶片上进行曝光，形成亚微米的图形，该方法的特征在于由金属等离子体产生大功率脉冲X射线，然后用X射线聚束透镜将发散的X射线会聚成平行束，进行光刻。
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