[实用新型]碳化硅双面研磨载具和双面研磨设备

摘要

本实用新型提供了一种碳化硅双面研磨载具和双面研磨设备，涉及晶片研磨技术领域，碳化硅双面研磨载具包括第一载具、第二载具和承载盘，第一载具和第二载具贴装在承载盘的两侧表面，且第一载具上设置有用于容置晶片的第一凹槽，第二载具上设置有用于容置晶片的第二凹槽，承载盘上贯通开设有研磨液导通孔，研磨液导通孔的两端分别与第一凹槽和第二凹槽连通，用于将第一凹槽中的研磨液导流至第二凹槽，进而使得载具两侧的研磨液能够互通，保证上下侧研磨液的供给效果。相较于现有技术，本实用新型提供的碳化硅双面研磨载具，能够提升晶片承载数量，降低生产成本，并且能够保证研磨液供给效果，保证研磨效果。