[发明专利]MEMS产品中钛金属连接层刻蚀去胶工艺在审
| 申请号： | 202311064172.0 | 申请日： | 2023-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN116854029A | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | 朱景春;李海涛;王玮;高玉波;周思豪;陈国雪;姚祥 | 申请（专利权）人： | 安徽光智科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 张向琨 |
| 地址： | 239004 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种MEMS产品中钛金属连接层刻蚀去胶工艺包括步骤：步骤一，提供待刻蚀的复合膜层，复合膜层包括从硅衬底、氮化硅膜层、钛薄膜以及铝膜层；步骤二，图形化设置光刻胶铝膜层上，以使光刻胶覆盖部分的顶层的铝膜层且使光刻胶露出与光刻胶覆盖部分的顶层的铝膜层相邻两侧的部分的顶层的铝膜层；步骤三，将复合膜层置于湿法刻蚀的第一腔室中，在第一腔室中从露出的顶层的铝膜层的部位刻蚀；步骤四，采用湿法去胶；步骤五，将步骤四完成的复合膜层图形化设置光刻胶，形成沟槽；步骤六，将步骤五完成的复合膜层置于第二腔室中，沿着沟槽进行钛薄膜刻蚀；步骤七，光刻胶去除设备中去胶；步骤八，在钛薄膜以及铝膜层上长膜形成氮化硅覆盖层。 | ||
| 搜索关键词： | mems 产品 金属 连接 刻蚀 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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