[发明专利]一种耐腐蚀磁流变抛光液循环装置及循环方法在审
| 申请号： | 202311018150.0 | 申请日： | 2023-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN116922268A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 刘赫男;田金川;陈明君;程健;吴春亚 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B24B57/00;B24B31/112;B24B1/00;B01F27/90;B01F27/191 |
| 代理公司： | 黑龙江立超同创知识产权代理有限责任公司 23217 | 代理人： | 杨立超 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种耐腐蚀磁流变抛光液循环装置及循环方法，属于热化学抛光领域。为解决现有的磁流变抛光液循环装置易被磁流变抛光液中的碱性物质腐蚀损坏发生漏液情况，影响抛光过程的连续性和稳定性问题。存储搅拌器与万向喷头通过供给硅胶软管连通，供给硅胶软管上设有供给蠕动泵，供给硅胶软管浸没在恒温水浴锅内，万向喷头的流出口处位于磁流变抛光液回收槽上方，磁流变抛光液回收槽的集液出口与存储搅拌器通过回收硅胶软管连通，回收硅胶软管上设有回收蠕动泵。具有良好的耐腐蚀能力；有效降低碱性磁流变抛光液在外部环境中的暴露面积，阻碍磁流变抛光液中氢氧化钠与空气中的二氧化碳发生反应，减少碱性物质的损耗量，保持较高材料去除率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 腐蚀 流变 抛光 循环 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202311018150.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 一种光学镜片铣磨机切削液收集装置-202310977622.9
- 吴明华;李彬;魏宁 - 南京荣达光学仪器有限公司
- 2023-08-04 - 2023-10-27 - B24B57/02
- 本发明属于铣磨机技术领域，尤其是一种光学镜片铣磨机切削液收集装置，针对现有的切削液收集装置会对这些切削液进行过滤，但是现有的切削液收集装置内是采用过滤板由上向下过滤切削液，导致切削液内的切屑会堆积在过滤板上，从而很容易就会造成过滤板堵塞的问题，现提出如下方案，其包括箱体，箱体的顶部左侧内壁上贯穿固定安装有回水管，且回水管的顶端呈锥形状，分散组件，分散组件安装在箱体的左侧顶部内壁上，且回水管的底端与分散组件相连接，本发明能够在对切削液进行回收后，能够针对切削液中不同体积的颗粒实现分级过滤，实现使得在实际使用时，能够实现持续稳定的对切削液进行过滤，不会发生堵塞的问题。
- 一种金刚石研磨液供液装置-202321051732.4
- 陈永光;赵嘉徐;李贺;许安明 - 南京金瑞立丰硬质材料科技有限公司
- 2023-05-05 - 2023-10-27 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种金刚石研磨液供液装置，涉及金刚石研磨用技术领域，本实用新型包括供液组件，供液组件上中部紧固连接有搅拌组件，且搅拌组件包括电机和连接柱，连接柱插接连接在电机输出轴端部，且连接柱外端固定连接有搅拌件，连接柱一侧表面中部设置有第二螺孔，且电机输出轴端部设置有圆槽，圆槽两侧表面设置有插孔。本实用新型通过设置搅拌组件和供液组件，解决了现有的金刚石研磨液供液装置，通常缺少相关的搅拌结构，长时间的不使用时，通常磨料会发生严重的沉淀，在进行使用时，会使研磨液的效果大打折扣；并且现有的金刚石研磨液供液装置，通常需要连接管道对研磨液进行运输，其中其管道接口处，容易出现泄漏的情况的问题。
- 一种耐腐蚀磁流变抛光液循环装置及循环方法-202311018150.0
- 刘赫男;田金川;陈明君;程健;吴春亚 - 哈尔滨工业大学
- 2023-08-14 - 2023-10-24 - B24B57/02
- 本发明提供一种耐腐蚀磁流变抛光液循环装置及循环方法，属于热化学抛光领域。为解决现有的磁流变抛光液循环装置易被磁流变抛光液中的碱性物质腐蚀损坏发生漏液情况，影响抛光过程的连续性和稳定性问题。存储搅拌器与万向喷头通过供给硅胶软管连通，供给硅胶软管上设有供给蠕动泵，供给硅胶软管浸没在恒温水浴锅内，万向喷头的流出口处位于磁流变抛光液回收槽上方，磁流变抛光液回收槽的集液出口与存储搅拌器通过回收硅胶软管连通，回收硅胶软管上设有回收蠕动泵。具有良好的耐腐蚀能力；有效降低碱性磁流变抛光液在外部环境中的暴露面积，阻碍磁流变抛光液中氢氧化钠与空气中的二氧化碳发生反应，减少碱性物质的损耗量，保持较高材料去除率。
- 一种研磨机集中供砂系统-202320848223.8
- 王鹏;吴怡平;冯磊;徐朕垚 - 浙江百盛光电股份有限公司
- 2023-04-17 - 2023-10-24 - B24B57/02
- 本实用新型涉及供砂装置技术领域，公开了一种研磨机集中供砂系统，包括供砂装置本体以及固定连接在供砂装置本体顶部的研磨室，且研磨室设置有多组，供砂装置本体的顶部还固定连接有供砂桶和回砂桶，供砂桶的顶部固定连接有搅拌电机，搅拌电机的输出端固定连接有搅拌杆，搅拌杆延伸至供砂桶的内部，供砂桶的内部还固定连接有冷排管，且冷排管环绕设置在供砂桶的内部，供砂装置本体的顶部还固定连接有供砂泵，本申请通过回砂槽、喷射管、搅拌电机和供砂泵的设置，实现了能够对砂液进行集中检测和控制，大大的节约了人工成本，对工艺的控制更加的稳定和精准，解决了人工对每一台研磨机的砂液进行检查和控制都费时费力的问题。
- 一种晶片抛光过程供药装置-202321081892.3
- 吴倩;周铁军;王金灵;田玉莲 - 广东先导微电子科技有限公司
- 2023-05-08 - 2023-10-24 - B24B57/02
- 本申请涉及生半导体晶片生产技术领域，具体公开了一种晶片抛光过程供药装置，包括：第一管道与第二管道；所述第一管道环绕于抛盘外周，且设置有多个朝向抛盘的第一喷嘴；所述第二管道环绕于抛盘外周，且设置有多个朝向抛盘的第二喷嘴。本方案通过环绕抛盘的第一管道和第二管道，并在第一管道和第二管道上设置多个第一喷嘴和第二喷嘴，可以有效提高晶片抛光过程中晶盘上不同晶片接触药液量的一致性，降低晶片因为接触药液量较少而导致抛光效果不佳的可能性。
- 液体喷管及研磨机台修整器-202321320585.6
- 顾浩;杨俊男;闫晓晖 - 上海积塔半导体有限公司
- 2023-05-29 - 2023-10-20 - B24B57/02
- 本实用新型提供一种液体喷管及研磨机台修整器。液体喷管包括：管体，所述管体具有相对设置的第一侧壁与第二侧壁，所述第一侧壁向外延伸形成第一延伸部；多个喷孔，沿所述管体的轴向排列，并位于所述第一延伸部与所述第二侧壁的交界处；至少一第一凹槽，形成于所述第一延伸部，所述第一凹槽的开口朝向所述管体。上述技术方案，通过设计带有第一凹槽的管体，使液体中的颗粒物能够下落并停留在第一凹槽处，减少颗粒物在喷孔处的堆积，避免喷孔堵塞。
- 一种应用于抛光设备的多点自动加油系统-202321379538.9
- 孔德坤;黄军;莫浩文;全任茂 - 广东纳德新材料有限公司;佛山市纳德新材料科技有限公司;肇庆高新区纳德科技有限公司
- 2023-05-31 - 2023-10-20 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种应用于抛光设备的多点自动加油系统，包括加油泵、第一控制阀组、分配器，第一控制阀组、加油泵连接有主控系统，以使主控系统控制加油泵将润滑油沿主输油管的油路布置泵送至第一控制阀组；每一分配器分别通过分输油管一与第一控制阀组的其中一个液压阀连接，以使主控系统控制所述第一控制阀组通过多条分输油管一定时自动将润滑油对应输送到每一个分配器，每一个分配器通过分输油管二连接磨头总成的加油位进行定量自动添加润滑油。这样，第一控制阀组即可定时自动地向各分配器输送润滑油，各分配器定量自动对磨头总成的多个加油位进行加油润滑，提高加油效率及降低成本。
- 一种半导体研磨机用研磨液喷射机构-202321175559.9
- 常梁俊 - 苏州浚泰新能源设备有限公司
- 2023-05-16 - 2023-10-20 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种半导体研磨机用研磨液喷射机构，包括研磨液箱、研磨液收集槽与集液箱，所述研磨液箱与研磨液收集槽之间连接有输送管，所述研磨液箱与集液箱之间连接有回液管，所述研磨液收集槽与集液箱之间连接有输液管，所述输送管的端部连接有喷射管，所述喷射管定位在研磨液收集槽上，所述输送管上定位有第二泵体与第一泵体，所述研磨液箱的顶部定位有净化箱。本实用新型所述的一种半导体研磨机用研磨液喷射机构，设有研磨液收集槽、喷射机构与循环回收结构，能够方便对研磨液进行控制，均匀输出到研磨的位置，增加研磨的效果，还可以方便对研磨液进行回收利用，提高研磨液的利用率，降低研磨成本。
- 一种循环式流水线抛光设备的加溶液机构-202321272849.5
- 钟福洲 - 宁波昌源自动化设备有限公司
- 2023-05-22 - 2023-10-20 - B24B57/02
- 本申请涉及一种循环式流水线抛光设备的加溶液机构,属于抛光设备技术领域，其包括机架，转动安装有一侧为开口状的物料盒；溶液管，安装于所述机架上且所述溶液管上开设有出液口；光电开关组件，安装于所述机架上用于向控制系统发送信号控制所述物料盒移动或停止，出液口与所述物料盒的开口处对应时，所述物料盒停止移动。本申请具有提高对工件抛光效果的效果。
- 一种研磨液供应系统-202321000911.5
- 王永成 - 上海致领研磨科技有限公司
- 2023-04-28 - 2023-10-10 - B24B57/02
- 本实用新型属于研磨液供应技术领域，且公开了一种研磨液供应系统，包括搅拌箱，所述搅拌箱设置有两个，两个所述搅拌箱的顶部自外向内依次设置有超声波震荡单元、搅拌电机和抽液泵，所述超声波震荡单元的底部固定安装有工作端。本实用新型通过搅拌片、超声波震荡单元和过滤网等结构的配合，通过搅拌片的作用，从而使得研磨液中的颗粒被打散，同时启动超声波震荡单元，从而研磨颗粒更容易被悬浮和分散，从而提高了研磨效率，从而提高了研磨精度，且由于震荡的产生，从而减少研磨颗粒堵塞在过滤网上的程度，从而延长了使用寿命，继而使得合格大小的研磨液进入到抽液泵底部的工作区中，从而最终被抽到研磨机中进行研磨工作。
- 一种用于半导体研磨液供应设备的排气板-202321065616.8
- 丁红伟;丁双伟;郭俊杰 - 上海亿鼎电子系统集成有限公司
- 2023-05-06 - 2023-10-03 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种用于半导体研磨液供应设备的排气板，其特征在于，包括固定在所述半导体研磨液供应设备的壳体上的排气固定板、通过紧固件活动安装在排气固定板上的多个调节板，所述排气固定板的安装调节板的位置处开设有第一排气孔和第一固定孔，调节板上开设有与第一排气孔相重叠的第二排气孔和与第一固定孔相对准的第二固定孔，第一排气孔和第二排气孔之间的重叠面积可调。本实用新型通过在半导体研磨液供应设备的壳体内部设置排气板，可以增加通风排气效果，同时排气板的通风面积可调，可以实现通风面积的控制。
- 一种新型的集中供液装置-202320207150.4
- 尹文宝;王维师;王锴;菅明辉;曹锦伟;李世权;孙晨光;王彦君 - 中环领先半导体材料有限公司
- 2023-02-14 - 2023-10-03 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种新型的集中供液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有加热管，所述加热管的顶部设置有主抛光液箱，所述主抛光液箱的顶部设置有冷却水盘管，所述主抛光液箱的一侧设置有框架，所述框架的顶部分别设置有原液箱和氢氧化钾溶液箱，所述氢氧化钾溶液箱的一侧表面设置有氢氧化钾液位系统，所述原液箱和氢氧化钾溶液箱的一侧分别设置有原液供液泵和计量泵，所述框架的底部设置有三路供液系统。该一种新型的集中供液装置，在进行日常使用的过程中，可实现由原来的7小时换液延长至168小时换液，减少产品因换液带来的质量波动，进而有效的实现抛光液集中供应，减少抛光液的更换周期，提高产品的整体质量。
- 一种新型的不停机换液装置-202320164865.6
- 尹文宝;黄盛军;王维师;白苏宁;王锴;菅明辉;曹锦伟;李仕权;王彦君 - 中环领先半导体材料有限公司
- 2023-02-09 - 2023-10-03 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种新型的不停机换液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有冷水管，所述冷水管的顶部一侧设置有抛光液回收箱，所述抛光液回收箱的一侧设置有温度传感器，所述冷水管的一侧表面设置有液位传感器，所述冷水管一侧的底座顶部设置有供液泵，所述冷水管靠近底部的一侧设置有抛光液出口，所述抛光液出口与供液泵之间通过管道贯通连接。该一种新型的不停机换液装置，采用抛光机同时连接一主、一副两组供液系统实现不停机换液，减少传统的停机换液造成的工时浪费，减少停机造成大盘温度变化对产品几何参数造成的影响，有效的实现抛光机的抛光液寿命到期后，直接切换加入新抛光液的副TANK系统供液，达到不停机换液的目的。
- 减少CMP机台研磨液在供应管路及元件中结晶的供应方法及其系统-202310578030.X
- 刘智功;周祖源 - 盛合晶微半导体（江阴）有限公司
- 2023-05-22 - 2023-09-29 - B24B57/02
- 一种减少CMP机台研磨液在供应管路及元件中结晶的供应方法，包括以下步骤：当CMP机台在idle状态时，执行内循环，研磨液经第一管路、阀门箱、第二管路、手阀、第三管路、过滤器、第四管路、供应切换模组、第六管路、流量控制模组、第七管路、第九管路、阀门箱以及第十管路返回至厂务中央供应系统或者本地供应系统循环；以及当第一研磨液常开阀、第四常开阀通气打开，第三常闭阀以及第五常闭阀通气被截断时，研磨液经第一管路、所述阀门箱、第二管路、手阀、第三管路、过滤器、第四管路、供应切换模组、第六管路、流量控制模组、第七管路、第四常开阀、第八管路供应至CMP机台内部的研磨液喷洒臂。
- 钻石液的加注机构及研磨装置-202310940695.0
- 任明元;梁春;刘文平;张景斌 - 苏州博宏源机械制造有限公司
- 2023-07-28 - 2023-09-29 - B24B57/02
- 本发明属于蓝宝石加工技术领域，公开了一种钻石液的加注机构及研磨装置，该机构包括设置液体输入口以及气体输入口的喷嘴，还具有钻石液吸取组件，钻石液吸取组件包括钻石液容器以及吸取管，钻石液容器被配置为储存钻石液；吸取管的第一端连接液体输入口，吸取管的第二端伸入钻石液容器中；吸取管中至少部分管段为水平设置的螺旋管段；还设置有气体输入组件，气体输入组件包括气管，气管的第一端连接气体输入口，气管的第二端连接有压缩气源。研磨装置包括研磨盘以及上述钻石液的加注机构。通过上述的钻石液吸取组件、气体输入组件以及喷嘴，布液均匀性好，避免钻石液浪费；钻石液在螺旋管段内呈现自搅拌的状态，避免沉淀。
- 抛光液输送装置及研磨设备-202320964805.2
- 余奇;魏志杰 - 粤芯半导体技术股份有限公司
- 2023-04-25 - 2023-09-29 - B24B57/02
- 本申请提出了一种抛光液输送装置及研磨设备。该抛光液输送装置包括摆臂组件、驱动源和传动组件；摆臂组件包括臂体以及设置于臂体下侧的抛光液输送管，抛光液输送管用于输送抛光液并设有允许抛光液输出的第一喷嘴；传动组件建立摆臂组件与驱动源之间的连接通道，驱动源用于驱动传动组件以带动摆臂组件沿顺时针或逆时针方向摆动。本申请使得摆臂的位置并非固定的，从而可以灵活调节抛光液的落点。
- 一种镜片抛光液供给装置-202321222538.8
- 尹园圆;胡玲;章婷;章涛 - 安徽光联光电科技有限公司
- 2023-05-19 - 2023-09-29 - B24B57/02
- 本实用新型涉及抛光液供给技术领域，且公开了一种镜片抛光液供给装置，包括抛光工作台，所述抛光工作台的上部后侧固定连接有L形支撑板，所述L形支撑板上开设有导向槽，所述导向槽的内部设置有调节机构，所述L形支撑板的内侧中部固定连接有固定件，所述固定件的内侧固定连接有储液罐，所述储液罐的内部开设有加热腔，所述加热腔内设置有加热机构，所述储液罐的底部固定连通有多个出液管，且所述出液管上固定安装有阀门；本实用新型在使用时，可以根据镜片抛光的情况控制抛光液的供给量，同时可以根据镜片的抛光情况对抛光液的供给位置进行调节，并且还可以对储液罐内壁上的抛光液进行清理，使得装置的实用性大大提高。
- 抛光液自动供给装置及其使用方法-202211118101.X
- 谷阳正;谭彬彬;孟祥敦 - 南通新蓝机器人科技有限公司
- 2022-09-15 - 2023-09-26 - B24B57/02
- 本发明涉及一种抛光液自动供给装置及其使用方法，包括箱体，箱体上端设有上横板，横板中部设有开口，开口处设有网罩，网罩外缘处设有防溢环，横板上一角处设有第一支架，第一支架上安装有液位计；所述箱体内设有抛光液供给器，抛光液供给器包括液仓和驱动装置；液仓的口部与横板的开口相连；液仓内设有活塞板，驱动装置用于驱动活塞板上下运动；液仓内盛有抛光液，供给抛光液时，活塞板向上运动将抛光液液面推至网罩处；本发明的抛光液自动供给装置，通过驱动装置、液位计、滚珠丝杆等的优化设计，实现了抛光液自动供给，并能通过网罩回收部分抛光液，还能完成羊毛轮的清洗工作，高效、节能且成本低。
- 抛光液供给系统及晶圆抛光机-202311005660.4
- 朱亮;曹建伟;李阳健;陈建国;王旭东;张国阳 - 浙江晶盛机电股份有限公司;浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
- 2023-08-10 - 2023-09-22 - B24B57/02
- 本发明涉及一种抛光液供给系统及晶圆抛光机，该抛光液供给系统应用于晶圆抛光机，该抛光液供给系统包括：中心轴，开设有进液流道；及第一转动件，转动连接于中心轴，开设有出液流道，出液流道用于连通供液通道；进液流道连通出液流道。因为进液流道、出液流道均位于抛光液供给系统内，所以抛光液在流动过程中始终不会暴露于外界。因此，外界的杂质无法通过抛光液进入晶圆抛光机流入上盘，这能够避免外界的杂质对晶圆的抛光过程造成负面影响而导致晶圆的抛光品质降低。而且，因为抛光液没有暴露于外界，所以抛光液不容易挥发，晶圆抛光机上由挥发的抛光液形成的结晶便会显著减少，这能够减轻晶圆抛光机的清洁负担。
- 研磨液供给装置-202310430555.9
- 孙婷婷 - 长鑫存储技术有限公司
- 2023-04-21 - 2023-09-22 - B24B57/02
- 本公开涉及一种研磨液供给装置，应用于化学机械研磨设备，研磨液供给装置包括控制器、运动机构、研磨液供给臂及喷嘴，运动机构安装于化学机械研磨设备上；研磨液供给臂的一端活动安装于运动机构；喷嘴安装于研磨液供给臂的另一端，位于化学机械研磨设备的研磨垫的上方，喷嘴包括连通管部和连通连通管部的扇形出口部，其中，扇形出口部的开度可调节，研磨液经研磨液供给臂及喷嘴分散至研磨垫上；控制器与运动机构、研磨液供给臂及喷嘴均相连，用于控制运动机构、研磨液供给臂及喷嘴中至少一个动作，来改变分散至研磨垫上研磨液的轨迹，避免产生研磨液在研磨垫上堆积及分散不匀的技术问题。
- 喷嘴及化学机械研磨装置-202310293275.8
- 李子昂 - 长鑫存储技术有限公司
- 2023-03-24 - 2023-09-22 - B24B57/02
- 本公开实施例提供一种喷嘴及化学机械研磨装置，涉及研磨装置技术领域。该喷嘴用于向化学机械研磨装置的研磨垫提供处理液，研磨垫的承载面的法线方向为第一方向；其中，喷嘴包括具有流通通道的本体，流通通道用于与处理液供给装置连通；本体包括与流通通道连通的多个出液口，至少部分出液口的出液方向与第一方向具有预设夹角，预设夹角不为零。本公开用于增加了处理液落入研磨垫的接触区域的面积。当研磨垫在转动的过程中，可以使处理液快速均匀地铺满整个研磨垫，提高了化学机械研磨装置的研磨效率。
- 一种轴承滚动体磨球的供液系统-202311036607.0
- 王建强;韩佳飞;袁非凡 - 山东瑞斯卡诺轴承科技有限公司
- 2023-08-17 - 2023-09-15 - B24B57/02
- 本发明涉及汽车零部件加工技术领域，公开了一种轴承滚动体磨球的供液系统，包括：钢球研磨机，所述钢球研磨机上设有供液喷头；沉淀池；研磨液池；所述沉淀池一侧开设有开口，所述沉淀池内设有倾斜的导料传送带，所述导料传送带一端贯穿所述开口；本发明通过磁性分离器将废研磨液中的铁屑等固态杂质吸出，然后被吸出的铁屑等固态杂质落在导料传送带上，并滞留在沉淀凹槽内，分离后的研磨液沿着导料传送带向下流动，并通过回流管流入至研磨液池内，滞留在沉淀凹槽内的铁屑等固态杂质随着导料传送带反方向转动，然后沿着导料传送带端部落入废渣收集箱内，该沉淀池能够合理的将铁屑等固态杂质与研磨液分离开。
- 一种光学镜片加工用抛光液循环装置-202310845761.6
- 王东云;王洪亮 - 上饶市星火光电有限公司
- 2023-07-11 - 2023-09-12 - B24B57/02
- 本发明涉及光学镜片加工设备技术领域，尤其涉及一种光学镜片加工用抛光液循环装置。本发明的目的是提供一种能减少抛光液残留量的光学镜片加工用抛光液循环装置。技术方案为：一种光学镜片加工用抛光液循环装置，包括有支架、储料件、水泵、进液管和出液管等，支架的上部连接有水泵，水泵的左部连接有进液管，进液管和水泵连通，水泵的上部连接有出液管，出液管和水泵连通，进液管的左侧连接有储料件。本发明通过第一齿轮和第二齿轮转动，从而使得旋转件和过筛件转动，于是过筛件就能通过离心力使得碎屑和抛光液分离，又通过阻隔布阻挡抛光液向上甩出，从而能实现减少抛光液残留量的目的。
- 一种电子芯片加工用晶圆研磨装置-202310707520.5
- 朱春红;虞曼;何净英 - 深圳市锲金实业有限公司
- 2023-06-14 - 2023-09-12 - B24B57/02
- 本申请涉及半导体材料加工领域，公开了一种电子芯片加工用晶圆研磨装置，包括机架，所述机架一侧固定连接有底座，所述底座中部转动连接有研磨平台组件，所述研磨平台组件上侧与其旋转方向同向的依次设置研磨液喷洒组件、研磨头组件和刮除组件，所述底座上侧设置有收集腔，所述倾斜面低端设置有容液槽，所述研磨液喷洒组件通过从容液槽内抽取研磨液进行喷洒作业。本发明通过设置的收集腔将研磨作业时的研磨液进行收集，同时对其进行过滤，且过滤之后通过研磨液喷洒组件进行再次抽取喷洒至研磨垫上，供后续晶圆的研磨使用，可以有效避免研磨液的浪费和环境污染，同时提高研磨液的再利用率，在研磨作业中起到了节约成本、保护环境的作用。
- 研磨液输送装置及研磨液供应系统-202310892847.4
- 王成 - 长鑫科技集团股份有限公司
- 2023-07-19 - 2023-09-05 - B24B57/02
- 本公开提供一种研磨液输送装置及研磨液供应系统，研磨液输送装置包括储液容器、输送管、输送泵以及流量检测装置，储液容器内设置有将储液容器的内部空间分隔成缓冲空间和稳压空间的隔板，缓冲空间和稳压空间连通形成连通器；储液容器具有与稳压空间连通的出液口；输送管的一端与储液容器的出液口连通，另一端与混液容器的进液口连通；输送泵设置于输送管上，用于使稳压空间内的液体经输送管输出；流量检测装置设置于输送管上，用于检测输送管中的液体的流量。本公开的研磨液输送装置及研磨液供应系统可以提高研磨液的配比效率以及配比精度。
- 一种全自动快速煤焦光片表面处理机系统及处理方法-201910616146.1
- 赵俊国 - 辽宁翔舜科技有限公司
- 2019-07-09 - 2023-09-05 - B24B57/02
- 本发明提供一种全自动快速煤焦光片表面处理机系统及处理方法，其系统包括控制模块、水泵、抛光剂泵、预磨盘、抛光盘、光片夹持器，其中，水泵连接控制模块，水泵可在控制模块控制下向预磨盘喷洒清水；抛光剂泵连接控制模块，抛光剂泵可在控制模块控制下向抛光盘喷洒抛光剂；预磨盘连接控制模块，预磨盘可在控制模块控制下进行旋转实现样品预磨；抛光盘连接控制模块，抛光盘可在控制模块控制下进行旋转实现样品抛光；光片夹持器连接控制模块，光片夹持器用于夹持样品并可在控制模块控制下进行旋转从而与预磨盘配合实现样品预磨或与抛光盘配合实现样品抛光。本系统能够自动实现煤焦岩相光片的预磨、抛光、冲洗动作，最终得到合格光片。
- 研磨液供应方法-201910990332.1
- 彭名君 - 群福电子科技（上海）有限公司
- 2019-10-17 - 2023-09-05 - B24B57/02
- 本发明提供了一种研磨液供应设备，包括第一压力罐、第二压力罐、阀箱、第一连接管和第二连接管，所述第一压力罐上侧设有第一研磨液进入口和第一压力调节阀。采用可封闭的所述第一压力罐和所述第二压力罐来供应研磨液，且通过所述第一压力调节阀来调节所述第一压力罐内的压力，通过所述第二压力调节阀来调节所述第二压力罐内气压，通过气压做动力源，以使研磨液在所述第一压力罐和所述第二压力罐之间流动，无需气动泵或电动泵的使用，降低了成本，气压做动力源使得研磨液流速均一，保证了研磨液研磨的均一性。本发明还提供了一种所述研磨液供应设备用于实现研磨液供应的研磨液供应方法。
- 一种立式雕塑表面不规则图案制作装置及方法-202310900135.2
- 杨仙福 - 福安市玖玖工艺品有限公司
- 2023-07-21 - 2023-09-01 - B24B57/02
- 本发明涉及雕塑领域，提供一种立式雕塑表面不规则图案制作装置及方法，包括操作架，所述操作架上连接有成卷的热覆膜，所述热覆膜上设置有镂空部，所述操作架上设置可上下移动的活动架，所述活动架上连接有横向驱动组件，所述横向驱动组件连接有第一压紧组件，所述第一压紧组件用于压住热覆膜的一端，所述活动架上还设置有第二压紧组件，所述第二压紧组件用于压住热覆膜的另一端。本发明在使用时，热覆膜产生镂空部，然后利用各种部件自动化地将热覆膜附着在雕塑上，再通过加热嘴对热覆膜加热，使热覆膜与雕塑连接紧密，然后再通过喷涂嘴对热覆膜的镂空部喷涂抛光液，从而将抛光液快速喷涂到雕塑指定位置上。
- 一种用于半导体晶片加工的研磨液循环机构-202310821533.5
- 宋博文;陈凯;伍孝聪 - 苏州冠礼科技有限公司
- 2023-07-06 - 2023-08-29 - B24B57/02
- 本发明涉及一种用于半导体晶片加工的研磨液循环机构，包括磁浮式驱动电机，磁浮式驱动电机对接固定于桶槽底部，磁浮式波轮嵌入磁浮式驱动电机的波轮安装接口中，磁浮式驱动电机通过线路连接电机控制器，磁浮式波轮转动时为磁浮状态，磁浮式波轮带动研磨液向外向上运动，使得研磨液在桶槽内实现循环；桶槽内通过使用叶轮式流速计实际测量或通过仿真模拟出研磨液中流场分布，通过叶轮式流速计将流速的测量值反馈至可编程控制器，或者通过仿真模拟出的流场分布反馈至可编程控制器，可编程控制器经过PID计算出磁浮式波轮的转速后，通过模拟量输出到电机控制器；本发明可实时调整循环时研磨液的流速，其循环时无飞溅，循环效率好，研磨液均匀性好。
- 一种抛光液供给装置-202320691215.7
- 梁嘉晟 - 无锡吉致电子科技有限公司
- 2023-03-31 - 2023-08-25 - B24B57/02
- 本实用新型公开了一种抛光液供给装置，包括装置本体和控制面板，所述装置本体的底部设置有移动轮，且装置本体的表面设置有连接槽，并且连接槽通过连接轴与连接头相连接，同时连接头的两一侧设置有开合门，所述装置本体的一侧上端设置有进液管，且装置本体的另一侧下端设置有出液管，并且装置本体的顶端设置有配料筒，并且配料筒的底部设置有连接管，该抛光液供给装置设置有配料筒，可以对抛光液的原料进行存放，方便后期使用，同时通过浓度检测装置、控制面板和配料筒之间的配合使用，可以根据使用需要向内部添加配料，对抛光液的浓度进行改变，同时在搅拌扇和搅拌轴的作用下，对内部的抛光液进行搅拌，保证抛光液和原料能够均匀混合。
- 专利分类
