[发明专利]一种溅镀用IZO掺杂靶材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211626321.3 申请日: 2022-12-15
公开(公告)号: CN116041047A 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 谭洪蕾;邵学亮;李开杰;钟小华 申请(专利权)人: 先导薄膜材料(广东)有限公司
主分类号: C04B35/01 分类号: C04B35/01;C04B35/622;C23C14/35;C23C14/08
代理公司: 清远市清城区诺誉知识产权代理事务所(普通合伙) 44815 代理人: 龚元元
地址: 511500 广东省清*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于半导体材料制备技术领域,公开了一种溅镀用IZO掺杂靶材及其制备方法。所述IZO掺杂靶材由氧化铟、氧化锌和掺杂氧化物组成;所述IZO掺杂靶材中Zn与In的原子比为Zn/(Zn+In)=0.1%~7%;所述掺杂氧化物为氧化钽、氧化铈、氧化钛、氧化锗或氧化镓。所述制备方法为:将氧化铟粉末、氧化锌粉末、掺杂氧化物粉末与水、分散剂和粘结剂混合制浆,得到浆料;将所得浆料进行喷雾造粒,得到造粒粉末,然后经过干压和冷等静压后,进行常压烧结,得到所述溅镀用IZO掺杂靶材。本发明IZO掺杂靶材具有较低的ZnO加入量,且掺杂元素具有更多的选择,同时能够达到较高的致密度和导电性。
搜索关键词: 一种 溅镀用 izo 掺杂 及其 制备 方法
【主权项】:
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