[发明专利]一种受限薄液膜核态沸腾相变冷却结构及其制造方法在审
| 申请号： | 202211227301.9 | 申请日： | 2022-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN115458493A | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 付融;陈钏;曹立强;王启东;李君;苏梅英 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/427 | 分类号： | H01L23/427;H01L21/48 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 曹伟 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供了一种受限薄液膜核态沸腾相变冷却结构及其制造方法，包括依次层叠设置的流道层、超疏滤膜层和工质进出结构层，当半导体芯片的热量传输到流道层后，液膜开始沸腾并进行相变产生气泡，利用对液体具有超亲性的超亲微纳米结构实现对于沸腾气化核心的近位补液，并且有效限制气泡和超亲微纳米结构的表面的接触面积，减小气泡附着力，利用超疏滤膜层实现将气泡中的气体快速排出，并且同时防止液膜中的液体溢出，实现气液分离强化的目的，由此可见，本申请实施例提供的受限薄液膜核态沸腾相变冷却结构能够满足半导体芯片的散热需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 受限 薄液膜核态 沸腾 相变 冷却 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司，未经中国科学院微电子研究所;北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211227301.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种聚羧酸降敏剂及其制备方法
- 下一篇：一种减震式钢结构节点构件
