[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202111150121.0 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN114664813A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 朴俊范;具湘谟;金旻怡;尹锡玄 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/092
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 田野;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了半导体装置。所述半导体装置可以包括设置在基底上的有源图案和在有源图案上的源极/漏极图案。源极/漏极图案可以包括与有源图案的顶表面接触的底表面。半导体装置还可以包括连接到源极/漏极图案的沟道图案、延伸以越过沟道图案的栅电极以及从有源图案的侧表面延伸到源极/漏极图案的下侧表面的围栏绝缘层。一对中间绝缘图案可以在源极/漏极图案的底表面的两侧处且在有源图案与源极/漏极图案之间与围栏绝缘层的内侧表面接触。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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