[发明专利]掩模对准系统、掩模对准方法和光刻设备在审
| 申请号： | 202110422477.9 | 申请日： | 2021-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN113093487A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 高爱梅;武震;李星辰 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 汪喆 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻设备及工艺技术领域，尤其涉及一种掩模对准系统、掩模对准方法和光刻设备。该掩模对准系统包括数据处理装置、图像采集装置、工作台、掩模台、成像装置和投影物镜。工作台和掩模台分别设置于投影物镜的两侧，基准版的基准标记通过投影物镜呈倒立放大的像投射在掩模版上，成像装置的物侧朝向掩模版，图像采集装置设置于成像装置的像侧，数据处理装置能够对拍摄图像进行图像处理，确定掩模版与工作台的相对位置关系。该掩模对准方法和该光刻设备均采用该掩模对准系统。该掩模对准系统、掩模对准方法和光刻设备，对于测量范围的限制较小，能够应对多种多样的套合标记。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 系统 方法 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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