[发明专利]一种新型高压低损耗IGBT结构在审
申请号: | 202110421470.5 | 申请日: | 2021-04-20 |
公开(公告)号: | CN112993025A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 张轩;朱东柏 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨理工大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150080 黑龙江省哈尔*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明所涉及的是一种新型高压低损耗IGBT结构,此IGBT结构为集成PMOS的沟槽IGBT结构,包括集成PMOS的超级基区IGBT(PSBL IGBT)结构与集成PMOS的GGEE type IGBT(PGE IGBT)结构,PSBL IGBT结构是在SBL IGBT内部集成了PMOS结构,不仅改善了器件的导通特性与耐压特性,同时极大的改善了器件导通压降Vce(on)与关断损耗Eoff之间的折中关系,以及导通损耗Eon与续流二极管(FWD)反向恢复时的dVAK/dt折中关系,PGE IGBT结构是在GE IGBT内部集成了PMOS结构,其极大的改善器件的导通压降Vce(on)与关断损耗Eoff之间的折中关系。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 压低 损耗 igbt 结构 | ||
【主权项】:
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