[发明专利]掩膜版及其制备方法有效
| 申请号： | 202110362242.5 | 申请日： | 2021-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113088875B | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 毕娜;关新兴;刘明丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;陈敏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括：第一遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第一遮挡部的第一开口；其中，所述第一开口对应显示面板的显示区；设置于所述第一开口内侧并与所述第一遮挡部连接的第二遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第二遮挡部的第二开口；其中，所述第二遮挡部包括位于至少部分相邻的所述第二开口之间的第一金属层，以及设置于所述第一金属层与所述第二开口之间以围绕所述第二开口的第二金属层；所述第一金属层从所述第一开口侧壁向所述第一开口内延伸，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。该掩膜版可在保证蒸镀精度的前提下，同时兼顾用于蒸镀整面公共层(如阴极)的大开孔和蒸镀公共层图案的小开孔。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110362242.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
