[发明专利]掩膜版及其制备方法

说明书

本申请提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括：第一遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第一遮挡部的第一开口；其中，所述第一开口对应显示面板的显示区；设置于所述第一开口内侧并与所述第一遮挡部连接的第二遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第二遮挡部的第二开口；其中，所述第二遮挡部包括位于至少部分相邻的所述第二开口之间的第一金属层，以及设置于所述第一金属层与所述第二开口之间以围绕所述第二开口的第二金属层；所述第一金属层从所述第一开口侧壁向所述第一开口内延伸，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。该掩膜版可在保证蒸镀精度的前提下，同时兼顾用于蒸镀整面公共层(如阴极)的大开孔和蒸镀公共层图案的小开孔。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术

目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示屏幕的应用领域和产品形态逐渐趋向于多元化发展，刘海屏、折叠屏、曲面屏、屏下摄像等逐渐成为了OLED面板显示行业的研究热点。其中，通过降低摄像头区域的像素密度(低像素密度区)，去除像素间的阴极，同时其他区域为正常像素密度(高像素密度区)，需整面蒸镀阴极，保证显示效果和降低压降的影响，以实现局部透明显示和屏下摄像功能的技术被广泛研究。

OLED面板发光器件中阴极公共层为整面蒸镀，如何实现局部(异形区)的阴极图案化而其他区域整面蒸镀成为实现屏下摄像技术面临的主要问题。在众多的阴极图形化方案中，通过掩膜板实现阴极图形化蒸镀的方案是相对来说成本最低的方案。目前的OLED蒸镀技术中，精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)和公共层金属掩膜板(Common MetalMask,Open mask)分别用于蒸镀红、绿、蓝像素发光材料和公共层的有机或金属材料。由于局部(异形区)阴极的图案化精度要求高，传统的Open mask的制作精度无法满足要求，而局部图案化要求open mask必须兼顾大开口与像素级别开孔，并且异形区在张网过程中容易出现上翘或下垂现象，导致蒸镀精度降低，出现蒸镀不良。

发明内容

针对上述问题，本申请提供了一种掩膜版及其制备方法，解决了现有技术中蒸镀掩膜版在不变形的情况下无法同时兼顾异形区精细开口和正常区大开口的技术问题。

第一方面，本申请提供一种掩膜版，包括：

第一遮挡部；

多个间隔设置且贯穿所述第一遮挡部的第一开口；其中，所述第一开口对应显示面板的显示区；

设置于所述第一开口内侧并与所述第一遮挡部连接的第二遮挡部；其中，所述第二遮挡部的面积小于所述第一开口的面积；

多个间隔设置且贯穿所述第二遮挡部的第二开口；

其中，所述第二遮挡部包括位于至少部分相邻的所述第二开口之间的第一金属层，以及设置于所述第一金属层与所述第二开口之间以围绕所述第二开口的第二金属层；所述第一金属层从所述第一开口侧壁向所述第一开口内延伸，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第一金属层的延伸方向垂直于所述第一遮挡部与所述第二遮挡部的连接部分。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第一金属层的下表面与所述第二金属层的下表面平齐。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第二金属层还覆盖所述第一金属层的上表面和侧面。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第一遮挡部至少包括与所述第一金属层连接的第三金属层。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第三金属层的形状与所述第一遮挡部的形状相同。

在一些实施例中，上述掩膜版中，所述第三金属层包括多个间隔设置的子金属层；