[发明专利]一种化学气相沉积装置、聚对二甲苯薄膜及形成方法在审
| 申请号： | 202110281592.9 | 申请日： | 2021-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN113102196A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 何思进;张建飞 | 申请（专利权）人： | 立讯电子科技（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/00 | 分类号： | B05D1/00 |
| 代理公司： | 北京睿派知识产权代理事务所(普通合伙) 11597 | 代理人： | 刘锋 |
| 地址： | 215324 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种化学气相沉积装置、聚对二甲苯薄膜及形成方法。本发明实施例所述的化学气相沉积装置包括依次连通的蒸发室、裂解室、第一沉积室、冷井以及真空泵，并在第一沉积室中嵌入一个第二沉积室，所述第二沉积室上设置一个小于预定尺寸的第一通孔，根据气体流动学的相关原理，通过控制第一通孔的尺寸来控制第二沉积室内的气体流动状态以及压力，能够精确控制聚对二甲苯薄膜的厚度，提高聚对二甲苯薄膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 装置 二甲苯 薄膜 形成 方法 | ||
【主权项】：
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