[发明专利]提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机在审
| 申请号： | 202110186396.3 | 申请日： | 2021-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN112764328A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 王之群 | 申请（专利权）人： | 王之群 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 125300 辽宁省葫芦岛*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。将螺丝头镶嵌在一个圆盘A中心，螺母位置不变，圆盘A旋转一周，螺丝杆A就会向前伸出（此处只讲向前）1毫米，（伸出长短与螺丝扣大小成正比，此处假设为1毫米）圆盘A外周长如果是1米，那么圆盘A外周长旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1微米，圆盘外周长如果是1000米，那么圆盘A旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1纳米，（螺丝杆向前伸出或向后缩回1纳米，取决于圆盘旋转的方向）利用这个原理机床就可以实现1纳米精度雕刻。此方法可用于芯片制作替代光刻机。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 机床 精度 纳米 高级 方案 用于 芯片 生产 替代 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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