[发明专利]一种相变温度可调控的钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110106194.3 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112921291A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 吴嘉良;童丽萍;范同祥 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 吴文滨
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种相变温度可调控的钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法,该方法包括以下步骤:1)将VO2粉末与WO3粉末进行球磨混合,之后置于模具中进行热压烧结,得到靶材胚体;2)将铜背靶与步骤1)中的靶材胚体焊接在一起,得到靶材;3)将预处理后的衬底及步骤2)中的靶材一起置于磁控溅射腔中,进行射频磁控溅射,得到薄膜;4)将步骤3)中的薄膜进行退火结晶,即得到钨掺杂二氧化钒薄膜。与现有技术相比,本发明采用热压烧结的方式,制备了钨掺杂二氧化钒靶材,同时通过射频磁控溅射,解决了反应直流磁控溅射中存在的氧分压问题,制备高质量钨掺杂二氧化钒薄膜,且过程简单易于控制,实现VO2相变温度的调控。
搜索关键词: 一种 相变 温度 调控 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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