[发明专利]用于声表面波滤波器中磁控溅射的剥离方法有效
| 申请号： | 202110095416.6 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN112951755B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 袁燕;孟腾飞;徐浩;倪烨;张倩;王君;吴兵;张玉涛;闫彬 | 申请（专利权）人： | 北京航天微电科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H9/64 | 分类号： | H03H9/64;C23C14/14;C23C14/35;G03F7/16;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 厉洋洋 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于声表面波滤波器中磁控溅射的剥离方法，涉及微电子领域。该方法包括：通过旋涂光刻胶前，先旋涂聚酰胺酸，进行烘烤得到0.5μm厚的聚酰胺酸。然后在固化后的聚酰胺酸薄膜上旋涂正性光刻胶，再进行接触式曝光，显影，通过显微镜可以明显看到，位于光刻胶下层的聚酰胺酸被显影液显掉的更多，导致形成倒T形。沉积0.2μm厚的金属薄膜Al后，使用N‑甲基吡咯烷酮剥离液进行剥离，避免因为剥离导致金属薄膜被损伤，可以使金属膜厚的均匀性更好，膜厚更可控，剥离完成后金属线条边缘特别整齐光滑。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面波 滤波器 磁控溅射 剥离 方法 | ||
【主权项】：
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