[发明专利]一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法有效
| 申请号： | 202110051091.1 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112490107B | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 赵智星 | 申请（专利权）人： | 亦亨电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海科传知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31472 | 代理人： | 胡慧 |
| 地址： | 201600 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了等离子体刻蚀机技术领域的一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法，包括机壳，所述机壳顶部固定连接有电离箱；本发明通过利用间断齿轮和T型齿板啮合使得其通过翻转轴带动晶圆架翻转180°，此时实现了对晶圆的换面操作，进而实现了对晶圆的双面刻蚀，且整个过程无需打开装置取出晶圆，避免了打开装置取出晶圆时，外部的细小杂物进入到设备内部对内部的真空环境产生影响的问题，过程操作简单快捷，且避免了人手工操作对已经刻蚀好的晶圆面造成损坏的问题，同时在电动推杆向上运动时，将自动解除对晶圆架进行限位，在电动推杆向下运动时，限位板将缓慢的对晶圆架进行限位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 及其 方法 | ||
【主权项】：
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