[发明专利]光刻系统的扫描方法和光刻系统有效

专利信息
申请号: 202110019610.6 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN112764324B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 陈国军;吴景舟;马迪 申请(专利权)人: 江苏迪盛智能科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 苏州领跃知识产权代理有限公司 32370 代理人: 王宁
地址: 215100 江苏省苏州市吴中*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光刻系统的扫描方法和光刻系统,涉及光刻技术领域,所述方法应用于光刻系统,所述光刻系统包括机台、工作台和数字微镜器件DMD,所述DMD设置在所述机台上,所述工作台用于设置被光刻对象,所述方法包括:控制运动主体进行运动,以使所述DMD与所述被光刻对象同时发生第一方向和第二方向上的相对运动,所述运动主体包括以下至少一种:所述DMD、所述机台和所述工作台。避免了现有方案中在需要更改清晰度时需要更换不同参数的DMD成本较高的问题,达到了可以通过调整运动主体的运动速度进而方便快捷的实现清晰度调整的效果。
搜索关键词: 光刻 系统 扫描 方法
【主权项】:
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