[实用新型]一种磁控溅射镀膜磁性靶材有效
| 申请号： | 202023303473.9 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN214782106U | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 周其刚;李宪民;戴慧敏 | 申请（专利权）人： | 南京欧美达应用材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 211100 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜磁性靶材，其特征在于所述磁性靶材是通过若干块同材质的磁性材料拼接而成，其拼接线的形状与磁场布局的形状一致。本实用新型所述靶材设计为多块靶材拼接而成，且拼接线按磁场布局设计，使磁力线可以沿拼接线轻松穿透，能够吸引离子轰击靶材表面，使磁性材料也能应用于各种磁控溅射镀膜中，丰富了靶材的多样性，便于生产更多样的镀膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 磁性 | ||
【主权项】：
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