[实用新型]一种半导体原料的腐蚀清洗装置有效
| 申请号： | 202022129504.7 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN213495346U | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 陆海凤;柯尊斌;王卿伟;乔印彬 | 申请（专利权）人： | 中锗科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人： | 李建芳 |
| 地址： | 211299 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体原料的腐蚀清洗装置，包括清洗槽、溶剂储槽、腐蚀液储槽、干燥气储罐、去离子水储槽和收集槽；清洗槽的顶部设有排气口；溶剂储槽的底部通过第一管路与清洗槽侧壁顶部连通；腐蚀液储槽侧壁底部通过第二管路与清洗槽侧壁底部连通，第二管路上设有四氟管道泵；腐蚀液储槽的顶部通过第三管路与清洗槽侧壁的顶部连通；清洗槽的底部设有第四管路；干燥气储罐通过第五管路与第四管路连通；第四管路分支为第六管路和第七管路，第六管路与去离子水储槽连通；第七管路通向收集槽；清洗槽侧壁的顶部通过第八管路通向收集槽；各管路上根据需要设置电磁阀。上述装置避免了物料在清洗过程中的运转，降低了成本，提高了效率，提高了清洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 原料 腐蚀 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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