[发明专利]真空系统及使用该真空系统的浸没式光刻机有效
| 申请号： | 202011608108.0 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112684675B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 嵇佳;李元;杜亮;张颖;徐宁;付婧媛;付新 | 申请（专利权）人： | 浙江启尔机电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 朱亚冠 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种真空系统及使用该真空系统的浸没式光刻机。本发明包括气液分离罐，气液两相流在气液分离罐内分离为气相和液相流体，并分别沿两条流路流动；输送气体和液体的两条流路汇合连通后再由真空源统一抽排，在输送气体或者液体的流路上设置控制阀，根据气液分离罐或者附属流路内的压力进行反馈调节，保证向抽排端口输出的真空压力稳定；本发明解决了高精度真空调节器不宜接触液体的技术问题，能够使用较少的流控器件实现真空压力的高精度控制，降低了系统的复杂度和成本，尤其适用于对含液量较少的气液两相流的抽排。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 系统 使用 浸没 光刻 | ||
【主权项】：
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