[发明专利]磁控溅射镀膜中降低极紫外多层膜表面粗糙度的方法在审
| 申请号： | 202011336831.8 | 申请日： | 2020-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112458418A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 赵娇玲;邵建达;朱美萍;易葵;王胭脂;王涛;武振清;陈上林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种磁控溅射镀膜中降低极紫外多层膜表面粗糙度的方法，属于极紫外光刻技术领域。利用脉冲直流磁控溅射交替沉积高低原子序数多层膜，采用H |
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| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 降低 紫外 多层 表面 粗糙 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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