[发明专利]等离子体处理装置及测定方法在审
| 申请号： | 202011335246.6 | 申请日： | 2020-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112863989A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐;岩田学 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 所公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器、电气路径及测定器。基板支承器设置于腔室内。电气路径与搭载在基板支承器上的边缘环连接或电容耦合。测定器构成为通过经由电气路径向搭载在基板支承器上的边缘环施加电压来测定电气特征值。通过测定器所测定的电气特征值为根据边缘环的厚度发生变化的值。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 测定 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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