[发明专利]一种强激光功率探测结构在审
申请号: | 202010934228.3 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN112050939A | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 中山科立特光电科技有限公司 |
主分类号: | G01J1/58 | 分类号: | G01J1/58 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528458 广东省中山市中山火炬开发区中心城区港*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及激光功率测量领域,具体提供了一种强激光功率探测结构,在弹性形变层的下表面设置反射层;在弹性形变层的上表面设置贵金属颗粒。应用时,待测强激光照射到反射层上,由于光力效应,强激光对反射层及弹性形变层产生压力,导致弹性形变层形变和凸起,从而改变了弹性形变层上表面的贵金属颗粒之间的距离;应用另一束光从弹性形变层的上表面照射贵金属颗粒,应用光探测器探测贵金属颗粒的反射光,通过探测反射光的变化实现强激光功率的探测。本发明可以设计不同弹性系数的弹性形变层以适应不同量程的激光,所以本发明能够测量强激光的功率。另外,光力效应的响应速度快,所以本发明能够实现强激光功率的实时测量。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 功率 探测 结构 | ||
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- 一种光强分布的检测系统,包括一碳纳米管阵列和一成像元件,该碳纳米管阵列具有一第一表面及一与该第一表面相对设置的第二表面,所述碳纳米管阵列放置于一惰性环境或真空环境中;所述成像元件与碳纳米管阵列的第二表面间隔设置。
- 光源光强均一性测调系统及测调方法-201310081790.6
- 井杨坤 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
- 2013-03-14 - 2013-07-10 - G01J1/58
- 本发明公开了一种光源光强均一性测调系统及方法,该系统包括光强测试板;光源和图像采集模块,向测试板照射光、采集其上的色差变化图像;微处理器,与图像采集模块连接,通过控制模块与光源连接,微处理器将色差变化图像与其内部存储的比色标准进行比较,获得测试板上整个面的光强分布,判断光源所发出的光强均一性是否良好,并通过控制模块对光源的光强进行调整。本发明借助于光强测试板,能够一次测定整个照射面的光强,获得一个随时间变化的光强面的图像,对整个光强的均匀程度也可以精确的显示出来,可用于封框胶固化、镀膜、刻蚀等设备的光强均一度调试,省时省力,数据精确。
- 一种紫外消毒器在线监测系统-201210259819.0
- 强志民;李梦凯 - 中国科学院生态环境研究中心
- 2012-07-25 - 2012-12-05 - G01J1/58
- 本发明公开了一种紫外消毒器在线监测系统。该监测系统包括紫外线探头A;所述紫外线探头A设于紫外消毒器本体的石英套管和紫外灯之间的间隙内;所述紫外线探头A与设于所述紫外消毒器本体外的数据采集系统相连接。所述监测系统还包括紫外线探头B,所述紫外线探头B与所述数据采集系统相连接;所述紫外线探头B设于所述紫外消毒器本体内,且与所述石英套管之间设有间距;所述监测系统还包括紫外线探头C,所述紫外线探头C与所述数据采集系统相连接。本发明提供的在线监测系统通过在线监测三个重要的运行参数和其他常规参数(如流量、水温等),并结合验证的初始紫外剂量,可以获得运行中的紫外消毒器的实时剂量。本发明提供的在线监测系统同样可以对大型明渠流紫外消毒系统发生的任何故障进行报警。
- 一种利用纳米微粒排列形状测量近场光强分布的方法-201110104356.6
- 杨立军;刘炳辉;王扬 - 哈尔滨工业大学
- 2011-04-26 - 2011-11-30 - G01J1/58
- 本发明公开了一种利用纳米微粒的排列形状对近场光强分布进行测量的方法。它是一种利用隐失场所产生的强梯度力来操作纳米微粒,根据操作后产生的排列图案探测近场光强分布的方法。将纳米微粒置于精细结构的近场区域后,迅速衰减的隐失场能提供捕获微粒所需的梯度力,以实现纳米微粒稳定高效的捕获操作。近场区域内形成的三维光阱能平衡外界干扰力,将纳米微粒稳定捕获并约束于光强极点附近,因此微粒最终排列形成的图案形状能反映出精细结构近场区域的光强分布。利用纳米微粒在近场区域的排列形状,可实现精细结构表面近场光强的精确探测。
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