[发明专利]极性可控的高质量AlN模板制备方法在审
申请号: | 202010600481.5 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN111676451A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 刘志彬;郭亚楠;闫建昌;李晋闽;王军喜 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种AlN模板制备方法,包括以下步骤:提供衬底;采用磁控溅射技术在所述衬底上沉积AlN薄膜,厚度为0.001微米至10微米,过程中通入含氧气体、纯氮气或氮气和惰性气体的混合气体,形成低质量AlN模板;其中,若通入含氧气体,则得到Al极性面高质量AlN模板;若通入不含氧气体而只含有氮气和惰性气体,且惰性气体比例较低或溅射功率较低时,使得衬底表面形成富氮条件,则得到N极性面或混合极性面的高质量Al模板;若惰性气体比例较高或溅射功率较高时,使得衬底表面形成富Al条件,则得到混合极性面或N极性面高质量AlN模板;将得到的低质量AlN模板放入高温腔室中进行高温退火处理,得到高质量AlN模板。 | ||
搜索关键词: | 极性 可控 质量 aln 模板 制备 方法 | ||
【主权项】:
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