[发明专利]等离子体气相沉积设备

摘要

本发明涉及一种等离子体气相沉积设备，其包括等离子气相沉积结构，具有等离子气相沉积腔室；清洁等离子体源供给结构，具有清洁等离子体源腔室；以及连接管道，具有连通所述等离子气相沉积腔室和所述清洁等离子体源腔室的清洁供给通道、以及与所述清洁供给通道不连通的冷却通道；所述清洁供给通道与所述冷却通道通过导热隔离壁间隔；所述冷却通道具有至少一个与外界连通的冷却入口和至少一个与外界连通的冷却出口。上述等离子体气相沉积设备，可通过在冷却通道内输入冷却介质，以带走至少部分因含氟活性基团复合在清洁供给通道的内壁上而产生的热量，进而降低温度较高而导致的烫伤操作人员或火灾等安全隐患、增加连接管道的使用寿命。