[发明专利]包括空气间隔件的半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010517877.3 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN112086457A 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 金根楠;全辰桓;黄有商 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/768;H01L21/8242
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张青
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种半导体装置,其包括:包括沟槽的衬底。第一导电图案设置在沟槽内。第一导电图案具有比沟槽的宽度小的宽度。第一间隔件沿着第一导电图案的侧表面的至少一部分和沟槽延伸。第二间隔件至少部分地填充与第一间隔件相邻的沟槽。提供了空气间隔件,其包括在第一间隔件和第二间隔件之间的第一部分,以及设置在第二间隔件和第一部分上的第二部分。空气间隔件的第二部分的宽度大于空气间隔件的第一部分的宽度。
搜索关键词: 包括 空气 间隔 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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