[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010436421.4 申请日: 2020-05-21
公开(公告)号: CN111987092A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 金成玟;河大元 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/528;H01L29/78
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张帆
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体装置包括有源图案,其包括沟道区。沟道区布置在第一方向上彼此间隔开的第一源极/漏极图案与第二源极/漏极图案之间以及所述第一方向上彼此间隔开的第二源极/漏极图案之间。所述沟道区被构造为将所述第一源极/漏极图案彼此连接以及将所述第二源极/漏极图案彼此连接。栅电极布置在有源图案的底表面上,并且布置在第一源极/漏极图案之间以及第二源极/漏极图案之间。上互连线布置在与有源图案的底表面相对的有源图案的顶表面上,并且连接至第一源极/漏极图案。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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