[发明专利]一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法有效
| 申请号： | 202010419928.9 | 申请日： | 2020-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111562724B | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 肖燕青;吴长江;陈海巍 | 申请（专利权）人： | 无锡影速半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 彭素琴 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新吴区菱*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法，属于激光直写曝光技术领域。所述方法通过对图形进行两次不同位置的曝光，两次曝光过程分别对应第一图形和第二图形，第一图形为原始图形对应的数字化图形经过四舍五入的网格化处理后得到的图形，第二图形为原始图形对应的数字化图形根据图形变换参数平移后再经过四舍五入的网格化处理后得到的图形；结合适当的工艺条件，经行两次曝光叠加，本申请提出的方法能够将线宽差距从一个网格减到半个网格，在不改变任何硬件的条件下，减少线宽差异，提高线宽一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 两次 重叠 曝光 提高 一致性 方法 | ||
【主权项】：
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