[发明专利]发光元件的加工方法及利用其的系统与装置在审
| 申请号： | 202010177939.0 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111697111A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 谢明勋;李昌霖 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 刘茵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光元件加工方法，包含：分配晶圆上的多个发光元件群组，到多个类别，各发光元件群组的发光元件之间，包括晶圆水平节距与晶圆垂直节距；将类别相同的发光元件，从各晶圆转移到基板上；根据第一预定模式，从至少一类别的各基板上，转移发光元件到第一阶段载具，第一阶段载具上发光元件具有第一水平节距与第一垂直节距；以及根据第二预定模式，从第一阶段载具，转移发光元件到第二阶段载具，第二预定模式的发光元件具有第二水平节距与第二垂直节距。第一预定模式安排基板沿第一方向排列的两个相邻的发光元件，放置在第一阶段载具沿第一方向上非相邻位置。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 加工 方法 利用 系统 装置 | ||
【主权项】：
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