[发明专利]用于电极的基底以及使用该基底制造电极的方法在审

专利信息
申请号: 202010103706.6 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111600038A 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 李东勋;姜龙熙;林孝星 申请(专利权)人: SK新技术株式会社
主分类号: H01M4/78 分类号: H01M4/78;H01M4/04
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 罗达;安玉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种用于电极的基底,该用于电极的基底包括支撑体和支撑体上的包括活性材料的电极混合物层,该支撑体包括在横向上形成峰区和谷区的褶皱。
搜索关键词: 用于 电极 基底 以及 使用 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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