[发明专利]光刻胶去除装置及方法有效
| 申请号： | 202010011628.7 | 申请日： | 2020-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN111198482B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 解浩楠 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 李梅香;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种光刻胶去除装置和方法，在进行光刻胶去除处理时，晶圆设置在光刻胶去除装置的承载部件上，并通过所述承载部件的加热将温度保持在第一温度；其中，在所述承载部件的加热过程中，所述光刻胶去除装置的去胶反应腔的腔壁的温度升高；在所述去胶反应腔中使用第一气体中的氢源来执行去除所述晶圆上的光刻胶；其中，所述光刻胶去除装置的温度控制子装置将所述去胶反应腔的腔壁的温度控制在小于第二温度；其中，在所述第二温度下，所述第一气体中的氢源不与所述去胶反应腔的腔壁发生吸附作用。如此，能够在利用氢源与光刻胶反应实现去除光刻胶时，提供较高的去胶效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 去除 装置 方法 | ||
【主权项】：
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