[发明专利]一种超小型石英晶片的腐蚀刻蚀方法在审
申请号: | 201911270562.7 | 申请日: | 2019-12-12 |
公开(公告)号: | CN111058095A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 姜凡;高志祥 | 申请(专利权)人: | 南京中电熊猫晶体科技有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C30B29/18 |
代理公司: | 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 | 代理人: | 沈根水 |
地址: | 210028 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提出的是一种超小型石英晶片的腐蚀刻蚀方法,包括如下步骤:1)大片石英晶片加工;2)Mesa区域镀膜;3)Mesa区域腐蚀刻蚀;4)尺寸镀膜;5)尺寸腐蚀刻蚀;6)超小型石英晶片去金。本发明在大片石英晶片上进行加工来间接得到单片石英晶片,用Mesa镀膜和Mesa腐蚀刻蚀的精密加工技术减小中低频石英晶片的边缘效应,通过尺寸镀膜及尺寸腐蚀刻蚀间接完成超小尺寸水晶片的外形加工,从而避免引进光刻技术的巨大投资问题,且后续晶体加工镀膜材料可选择,减小成本压力。 | ||
搜索关键词: | 一种 超小型 石英 晶片 腐蚀 刻蚀 方法 | ||
【主权项】:
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