[发明专利]一种曲面屏磁控溅射组件在审
| 申请号： | 201911258181.7 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN110760808A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 孙桂红;祝海生;黄乐;陈立;唐洪波;唐莲;凌云;徐璐 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 31253 上海精晟知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周琼 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曲面屏磁控溅射组件，包括公自转伞具转架和多组阴极组件，多组阴极组件与公自转伞具转架不接触，多组阴极组件沿公自转伞具转架的周向分布，每组阴极组件包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节，公自转伞具转架包括自转架和多组用于装载基片的公自转架，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架绕所述中心轴公转。本发明基片架带动基片自转同时公转，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节的设置，溅射沉积更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 自转 公自转 伞具 转架 多组阴极 阴极组件 磁棒 磁场方向 阴极装置 可调节 中心轴 磁控溅射 溅射沉积 周向分布 不接触 基片架 装载 | ||
【主权项】：
1.一种曲面屏磁控溅射组件，其特征在于：包括公自转伞具转架(1)和多组阴极组件(2)，多组阴极组件(2)与公自转伞具转架(1)不接触，多组阴极组件(2)沿公自转伞具转架(1)的周向分布，每组阴极组件(2)包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒(21)，每组阴极组件(2)的两个磁棒(21)的磁场方向可调节，公自转伞具转架(1)包括自转架和多组用于装载基片的公自转架(12)，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架(12)可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架(12)绕所述中心轴公转。/n
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