[发明专利]数字掩模系统、图样成像设备及数字掩模方法在审

申请号：	201880067569.6	申请日：	2018-11-02
公开（公告）号：	CN111226171A	公开（公告）日：	2020-06-02
发明（设计）人：	史考特·柯林姆萨克;尼可拉斯·迪亚哥	申请（专利权）人：	捷普有限公司
主分类号：	G03F1/68	分类号：	G03F1/68;G03F1/76;G03F7/004;G03F7/20;G03F7/207;B29C64/10;B29C64/20;B29C64/25;B29C64/264;B29C64/277
代理公司：	北京润平知识产权代理有限公司 11283	代理人：	肖冰滨;王晓晓
地址：	美国佛***	国省代码：	暂无信息
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：	一种数字掩模系统包含一用于支撑一材料的支撑结构，及一图样成像设备。该图样成像设备包括一光源装置、多个将来自该光源装置的光转换为多个各表示出一图像的光束的成像装置，及一将所述光束组合为一被朝一材料投射的光束输出的组合器。
搜索关键词：	数字系统图样成像设备方法
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用于图案区域的基于特征的单元提取-202180085837.9
发明人：林彦廷 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/68
摘要：公开了基于特征的单元提取的改进系统和方法。该方法包括获得表示布局的数据，其中该布局包括无顶点的图案区域，从无顶点的图案区域中提取单位单元，使用单位单元识别布局的与单位单元匹配的区域集，并使用单位单元生成用于区域集的分级结构。在一些实施例中，图案区域包括斜角特征或包括无顶点特征。图案区域可以包括包含特征斜率、水平节距或竖直节距、或线空间特征的特征。在一些实施例中，分级结构被使用线性优化方程优化，并可以被提供用于建模、OPC、缺陷检查、缺陷预测、或SMO。

数字掩模系统、图样成像设备及数字掩模方法-201880067569.6
发明人：史考特·柯林姆萨克;尼可拉斯·迪亚哥 -专利权人：捷普有限公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G03F1/68
摘要：一种数字掩模系统包含一用于支撑一材料的支撑结构，及一图样成像设备。该图样成像设备包括一光源装置、多个将来自该光源装置的光转换为多个各表示出一图像的光束的成像装置，及一将所述光束组合为一被朝一材料投射的光束输出的组合器。

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模-201380047359.8
发明人：木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： G03F1/68
摘要：本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

移除接着剂的方法与装置-201680051025.1
发明人：朴一贤;赵大烨;金煐中 -专利权人： EO科技股份有限公司
申请日： 2016-08-17 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： G03F1/68
摘要：揭示一种自光罩上去除光罩与薄层接着的接着剂的装置。接着剂去除装置包括：激光照射部，向形成于上述光罩与上述薄层之间的接着剂层照射激光束；控制部，控制上述激光束的波长、波形及能量密度，以便借由照射上述激光束而去除上述接着剂层；以及拍摄部，对照射上述激光束的区域进行监控。

双硬掩模光刻工艺-201280070393.2
发明人： J·C·阿诺德;S·D·伯恩斯;S·J·福尔摩斯;D·V·霍拉克;M·桑卡拉潘迪恩;Y·尹 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2017-11-21 - 主分类号： G03F1/68
摘要：使用线图案对互连级电介质层之上的第一金属硬掩模层图案化。至少一个电介质材料层、第二金属硬掩模层、第一有机平面化层(OPL)以及第一光刻胶被施加在第一金属硬掩模层之上。第一通路图案被从所述第一光刻胶层转移到所述第二金属硬掩模层。第二OPL和第二光刻胶层被施加并使用第二通路图案进行图案化，该第二通路图案被转移到所述第二金属硬掩模层内。第一和第二通路图案的第一合成图案被转移到所述至少一个电介质材料层内。使用第一金属硬掩模层中的开口区域限制第一合成图案的第二合成图案被转移到互连级电介质材料层内。

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