[发明专利]激光产生的等离子体源有效

专利信息
申请号: 201880030698.8 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN110612482B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: G·H·P·M·斯温克尔斯;R·M·霍夫斯特拉;J·H·J·穆尔斯;P·W·克利里;B·P·范德里恩休伊曾 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01S3/23;H01S3/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 董莘
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于激光产生的等离子体源的种子激光器模块,该种子激光器模块包括:脉冲激光源,被配置为以脉冲重复率发射源辐射脉冲;子系统,被配置为提供电信号;电光调制器,被耦合到子系统,并且被配置为接收源辐射脉冲并且在电信号的控制下发射整形后的辐射脉冲;以及其中电信号包括与源辐射脉冲同相的处于脉冲重复率的选通脉冲、以及在选通脉冲中的连续选通脉冲之间的一个或多个次级脉冲。
搜索关键词: 激光 产生 等离子体
【主权项】:
1.一种用于激光产生的等离子体源的种子激光器模块,所述种子激光器模块包括:/n脉冲激光源,被配置为以脉冲重复率发射源辐射脉冲;/n子系统,被配置为提供电信号;以及/n电光调制器,被耦合到所述子系统,并且被配置为接收所述源辐射脉冲,并且在所述电信号的控制下发射整形后的辐射脉冲;/n其中所述电信号包括与所述源辐射脉冲同相的处于所述脉冲重复率的选通脉冲、以及在所述选通脉冲中的连续选通脉冲之间的一个或多个次级脉冲。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880030698.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top