[发明专利]用于移除半导体基板上的残余物的清洁组合物有效

专利信息
申请号: 201880020378.4 申请日: 2018-03-16
公开(公告)号: CN110475845B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: J·G·麦卡平;T·多瑞 申请(专利权)人: 富士胶片电子材料美国有限公司
主分类号: C11D3/28 分类号: C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D7/50
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 艾佳
地址: 美国罗*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开关于清洁组合物,其含有1)至少一种氧化还原剂;2)至少一种水溶性有机溶剂;3)至少一种含金属添加剂;4)至少一种环胺,及5)水。
搜索关键词: 用于 半导体 基板上 残余物 清洁 组合
【主权项】:
1.一种清洁组合物,其包含:/n1)至少一种氧化还原剂;/n2)至少一种水溶性有机溶剂;/n3)至少一种含金属添加剂;/n4)至少一种环胺;及/n5)水。/n
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