[实用新型]一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜有效
申请号: | 201820608764.2 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN208395261U | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 俞科;郭廷玮 | 申请(专利权)人: | 常州龙腾光热科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/06 |
代理公司: | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人: | 戴朝荣 |
地址: | 213100 江苏省常州市武进*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜,由上而下依次为Ag+SiO2纳米层、SiO2纳米层、Ag纳米层和Si纳米层,其中,所述Ag+SiO2纳米层中,Ag纳米颗粒随机嵌入电介质SiO2纳米膜层中,在电介质SiO2纳米膜层中形成蜂窝状孔隙结构,且孔隙直径为50~100nm,孔隙间距为100~200nm,所述Si纳米层由共聚焦孪生Si靶通过中频电源溅射镀覆在不锈钢基底表面上,形成中频孪生溅射形态。本实用新型利用表面等离子光子学的原理,通过将超薄吸收膜内的强干涉与局部表面等离激元共振结合起来,利用表面特殊的纳米结构可导致局域光电场显著增强,产生奇异的光学特性,在300‑800nm波长范围内吸收率接近100%。 | ||
搜索关键词: | 纳米层 吸收膜 电介质 等离子体增强 本实用新型 纳米膜层 区域表面 溅射 宽带 吸收率 蜂窝状孔隙结构 复合 表面等离子 不锈钢基 等离激元 光学特性 局部表面 纳米结构 中频电源 共聚焦 光电场 光子学 波长 镀覆 共振 嵌入 干涉 | ||
【主权项】:
1.一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜,其特征在于:由上而下依次为Ag+SiO2纳米层、SiO2纳米层、Ag纳米层和Si纳米层,其中,所述Ag+SiO2纳米层中,Ag纳米颗粒随机嵌入电介质SiO2纳米膜层中,在电介质SiO2纳米膜层中形成蜂窝状孔隙结构,且孔隙直径为50~100nm,各孔隙间间距为100~200nm,所述Si纳米层由共聚焦孪生Si靶通过中频电源溅射镀覆在不锈钢基底表面上,形成中频孪生溅射形态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州龙腾光热科技股份有限公司,未经常州龙腾光热科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820608764.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可提高靶材利用率的靶座
- 下一篇:一种磁控溅射镀膜机
- 同类专利
- 专利分类