[实用新型]一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜有效

专利信息
申请号: 201820608764.2 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN208395261U 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 俞科;郭廷玮 申请(专利权)人: 常州龙腾光热科技股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/06
代理公司: 南京钟山专利代理有限公司 32252 代理人: 戴朝荣
地址: 213100 江苏省常州市武进*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜,由上而下依次为Ag+SiO2纳米层、SiO2纳米层、Ag纳米层和Si纳米层,其中,所述Ag+SiO2纳米层中,Ag纳米颗粒随机嵌入电介质SiO2纳米膜层中,在电介质SiO2纳米膜层中形成蜂窝状孔隙结构,且孔隙直径为50~100nm,孔隙间距为100~200nm,所述Si纳米层由共聚焦孪生Si靶通过中频电源溅射镀覆在不锈钢基底表面上,形成中频孪生溅射形态。本实用新型利用表面等离子光子学的原理,通过将超薄吸收膜内的强干涉与局部表面等离激元共振结合起来,利用表面特殊的纳米结构可导致局域光电场显著增强,产生奇异的光学特性,在300‑800nm波长范围内吸收率接近100%。
搜索关键词: 纳米层 吸收膜 电介质 等离子体增强 本实用新型 纳米膜层 区域表面 溅射 宽带 吸收率 蜂窝状孔隙结构 复合 表面等离子 不锈钢基 等离激元 光学特性 局部表面 纳米结构 中频电源 共聚焦 光电场 光子学 波长 镀覆 共振 嵌入 干涉
【主权项】:
1.一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜,其特征在于:由上而下依次为Ag+SiO2纳米层、SiO2纳米层、Ag纳米层和Si纳米层,其中,所述Ag+SiO2纳米层中,Ag纳米颗粒随机嵌入电介质SiO2纳米膜层中,在电介质SiO2纳米膜层中形成蜂窝状孔隙结构,且孔隙直径为50~100nm,各孔隙间间距为100~200nm,所述Si纳米层由共聚焦孪生Si靶通过中频电源溅射镀覆在不锈钢基底表面上,形成中频孪生溅射形态。
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