[发明专利]一种基于转印轴差速匹配的微器件巨量转移装置及方法有效
申请号: | 201810991530.5 | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN109244021B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 陈建魁;尹周平;金一威 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L27/15 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 张彩锦;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于半导体技术领域,并具体公开了一种基于转印轴差速匹配的微器件巨量转移装置及方法,包括微器件剥离转移模块、初级转印轴模块、次级转印轴模块、基板承载模块、微器件补缺模块、固化模块、封装模块与基板搬运模块,微器件剥离转移模块用于将微器件剥离并转移至初级转印轴模块;初级转印轴模块用于拾取微器件并对微器件间距进行调整;次级转印轴模块用于拾取初级转印轴模块上的微器件并对微器件间距进行调整;基板承载模块用于拾取次级转印轴模块上的微器件并将其送入微器件补缺模块、固化模块、封装模块、基板搬运模块中实现补缺、固化、封装及上下料。通过本发明,利用转印轴差速匹配实现微器件的巨量转移,生产效率高,生产成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 转印轴差速 匹配 器件 巨量 转移 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于转印轴差速匹配的微器件巨量转移装置,其特征在于,包括微器件剥离转移模块(10)、初级转印轴模块(20)、次级转印轴模块(30)、基板承载模块(40)、微器件补缺模块(50)、固化模块(60)、封装模块(70)与基板搬运模块(80),其中:所述微器件剥离转移模块(10)布置于初级转印轴模块(20)的上方,其用于将晶元盘(14)上的微器件剥离并转移至初级转印轴模块(20);所述初级转印轴模块(20)用于拾取剥离的微器件,并对微器件的间距进行第一次调整;所述次级转印轴模块(30)位于初级转印轴模块(20)的右侧,且两者中心轴平行,该次级转印轴模块(30)用于拾取初级转印轴模块(20)上的微器件,并对微器件的间距进行第二次调整;所述基板承载模块(40)布置于次级转印轴模块(30)的下方,其用于拾取次级转印轴模块(30)上的微器件,并将微器件依次送入微器件补缺模块(50)、固化模块(60)和封装模块(70);所述微器件补缺模块(50)、固化模块(60)、封装模块(70)与基板搬运模块(80)依次布置于基板承载模块(40)的右侧,分别用于补缺、固化、封装及上下料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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