[发明专利]膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置有效
| 申请号： | 201810634417.1 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN108981624B | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 刘公才 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02;G06T7/00;G06T7/13;G06T7/62 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳;陈丽丽 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置。膜层厚度测量方法包括如下步骤：提供一图像，图像为两个以上同轴嵌套的膜层的截面图；选择一待测量膜层的膜层截面，待测量膜层的膜层截面包括相对的第一边界和第二边界；采用第一边缘检测算法获取第一边界的第一轮廓；采用第二边缘检测算法获取第二边界的第二轮廓；计算第一轮廓中的多个像素点到第二轮廓的垂直距离，得到第一膜层的厚度。本发明简化了膜层厚度的测量步骤，节省了人力成本，提高了膜层厚度测量的精准度和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 厚度 测量方法 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜层厚度测量方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一图像，所述图像为两个以上同轴嵌套的膜层的截面图，所述截面图显示有按序排列的若干膜层截面；选择一待测量膜层的膜层截面，所述待测量膜层的膜层截面包括相对的第一边界和第二边界；采用第一边缘检测算法获取所述第一边界的第一轮廓，所述第一边缘检测算法根据待测量膜层的物理性质、位于所述待测量膜层内侧的膜层的物理性质设置；采用第二边缘检测算法获取所述第二边界的第二轮廓，所述第二边缘检测算法根据待测量膜层的物理性质、位于所述待测量膜层外侧的膜层的物理性质设置；计算所述第一轮廓中的多个像素点到所述第二轮廓的垂直距离，得到所述待测量膜层的厚度。
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