[发明专利]电弧离子镀-磁控溅射复合沉积高温耐磨减摩AlTiN纳米多层涂层及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201810402723.2 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN108690956B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 王启民;张权;吴正涛;刘喆人;彭滨 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广东广信君达律师事务所 44329 | 代理人： | 张燕玲;杨晓松 |
| 地址： | 510062 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于材料涂层领域，公开了一种电弧离子镀‑磁控溅射复合沉积高温耐磨减摩AlTiN纳米多层涂层及其制备方法和应用。在经过离子源轰击清洗的基体表面，首先沉积金属AlTi结合层，以缓解基体与涂层热膨胀系数失配，增强膜‑基结合强度；再使用电弧离子镀沉积～1μm厚的AlTiN涂层作为过渡层，并对纳米多层结构涂层提供支撑；最后同时打开电弧AlTi靶与磁控AlTi靶复合沉积制备AlTiN纳米多层功能层。通过设计结合层、过渡层、复合沉积功能层以及调控涂层沉积过程中的工艺参数，改变调制周期，可在硬质合金基体上制备结合力高、摩擦系数低、内应力较小且性能稳定的AlTiN纳米多层涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 电弧 离子镀 磁控溅射 复合 沉积 高温 耐磨 altin 纳米 多层 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种电弧离子镀‑磁控溅射复合沉积高温耐磨减摩AlTiN纳米多层涂层，其特征在于：所述纳米多层涂层由下到上包括硬质合金基体、金属AlTi结合层、AlTiN过渡层和AlTiN功能层；AlTiN功能层是由调制比为1:1～10:1的电弧离子镀AlTiN中间层与磁控溅射AlTiN中间层交替沉积而成，调制周期范围是5～25nm；金属AlTi结合层中各元素的原子百分比含量为：Al:50～70at.％，Ti:30～50at.％；AlTiN过渡层、电弧离子镀AlTiN中间层与磁控溅射AlTiN中间层中各元素的原子百分比含量均为：Al:20～28at.％，Ti:18～22at.％，N:45～55at.％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学，未经广东工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810402723.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
