[发明专利]定位系统、用于定位的方法、光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 201780048911.3 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109564398B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;W·西门斯;B·詹森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种定位系统，所述定位系统包括第一主体、第二主体、布置在第一主体和第二主体之间的致动器以相对于第二主体定位第一主体；其中所述致动器包括串联布置的第一压电致动器和第二压电致动器，其中第一压电致动器具有第一迟滞，其中第二压电致动器具有第二迟滞，所述第二迟滞小于第一迟滞，其中第二压电致动器具有至少等于第一迟滞的定位范围。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 系统 用于 方法 光刻 设备 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种定位系统，包括：第一主体；第二主体；布置在第一主体和第二主体之间的致动器，以相对于第二主体定位第一主体；其中所述致动器包括串联布置的第一压电致动器和第二压电致动器，其中第一压电致动器具有第一迟滞，其中第二压电致动器具有第二迟滞，所述第二迟滞小于第一迟滞，其中第二压电致动器具有至少等于第一迟滞的定位范围。
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