[实用新型]蒸发率检测系统有效

专利信息
申请号: 201721776820.5 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN207581925U 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 张建柱;苏育家;曾海斌;于俊峰 申请(专利权)人: 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 赵景平;张春雨
地址: 100176 北京市大兴区北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种蒸发率检测系统,包括:电机、控制器、预设有蒸发镀膜所需时间的计时器、用于模拟玻璃基板的检测板、监测检测板位置的第一位置传感器、用于检测蒸发率的分析平台,以及多个转轴;转轴排列设置在工艺腔的检测板入口至工艺腔的检测板出口之间,第一位置传感器设置在转轴旁,分析平台安装在检测板出口的外侧;电机、计时器和第一位置传感器分别与控制器电连接;控制器通过电机驱动转轴旋转,使放置在转轴上的检测板行进;控制器在接收到第一位置传感器发送的就位信号后,控制电机停转并触发计时器计时,停止行进的检测板位于蒸发源的上方。本实用新型不仅可以减少维护和检测成本,并且可以提升整体效率。
搜索关键词: 检测板 第一位置 转轴 计时器 控制器 蒸发率 传感器 本实用新型 分析平台 检测系统 工艺腔 电机 行进 电机驱动转轴 传感器设置 玻璃基板 监测检测 控制电机 控制器电 排列设置 蒸发镀膜 整体效率 板位置 蒸发源 检测 就位 触发 停转 出口 计时 发送 维护
【主权项】:
1.一种蒸发率检测系统,其特征在于,包括:电机、控制器、预设有蒸发镀膜所需时间的计时器、用于模拟玻璃基板的检测板、用于监测所述检测板位置的第一位置传感器、用于检测蒸发率的分析平台,以及多个转轴;所述转轴排列设置在工艺腔的检测板入口至工艺腔的检测板出口之间,所述第一位置传感器设置在所述转轴旁,所述分析平台安装在所述检测板出口的外侧;所述电机、所述计时器和所述第一位置传感器分别与所述控制器电连接;所述控制器通过所述电机驱动所述转轴旋转,使放置在所述转轴上的所述检测板行进,并且所述控制器在接收到所述第一位置传感器发送的就位信号后,控制所述电机停转并触发所述计时器计时,停止行进的所述检测板位于蒸发源的上方。
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  • 2019-02-26 - 2019-05-21 - C23C14/54
  • 本发明公开了真空镀膜工艺中基于互联网的工艺参数调整方法,包括用户使用的PC终端/手持终端、起到工艺参数实时在线传输作用的工业智能网关、用于给多个电性元件提供电能的镀膜机控制电箱、承载多个电性监测调控元件的镀膜机腔室、辅助用户对真空镀膜工艺参数进行监管的在线监管APP。利用了成熟的互联网技术,将真空镀膜工艺过程中的各种参数通过工业智能网关及时反馈给用户的PC终端/手持终端,用户需要对真空镀膜工艺的参数进行调整时,只需要借助PC终端/手持终端内置安装的在线监管APP,即可快速实现参数调整,使得整个真空镀膜工艺更加井然有序的进行,提高了镀膜工艺的工作效率,节约了大量的人力成本。
  • 有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法-201710168825.8
  • 裴龙 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-03-21 - 2019-05-21 - C23C14/54
  • 本发明涉及一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法,涉及真空蒸镀技术领域,解决了现有技术中存在的生产过程中可操作性差、需要进行多次参数的更改和生产效率低的技术问题。本发明的方法是通过在晶振片不同的寿命周期蒸镀时,采用不用的Z值,以及相应的调整修正值之后在进行下一个寿命周期的蒸镀,能够使生产过程中需要更改的参数大大减少,并且实际膜厚与晶体管的频率之间的变化趋势趋于线性,使产品的品质更可靠,能够提高产品的合格率和生产效率。
  • 一种等离子体物理面控制系统-201510678415.9
  • 沈江民 - 河南卓金光电科技股份有限公司
  • 2015-10-20 - 2019-05-14 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种等离子体物理面控制系统,包括一组Y轴伺服驱动系统、两组X轴伺服驱动系统、两组型号相同的鱼鳞屏蔽;所述鱼鳞屏蔽安装于孪生靶前的两侧基本挡板上;所述鱼鳞屏蔽包括相互链接的十四片单面鳞片及基本挡板;所述单面鳞片安装于孪生靶前的两侧基本挡板上;所述Y轴伺服驱动系统包括Y轴伺服电机、Y轴滑杠及Y轴螺旋机构;所述X轴伺服驱动系统包括X轴伺服电机、X轴鳞片推动杆、X轴一字齿条和X轴传动杆。本发明的等离子体物理面控制系统,在真空状态下直接由电脑设置,伺服驱动传动输入,蛇形链接的不锈钢片按设置坐标点产生位移来调控等离子体物理面,从而达到溅射镀膜膜层均匀的目的。
  • 监控薄膜沉积-201480054124.6
  • M·B·林赞 - 英飞康公司
  • 2014-10-03 - 2019-05-10 - C23C14/54
  • 描述了一种用于监控薄膜沉积的系统。该系统包括石英晶体和用以产生调制信号的合成器。调制信号将通过石英晶体接地。该系统还包括相位检测器,用以确定来自石英晶体的调制信号的相位,从而监控薄膜沉积。调制指数可以被选择,使得在共振时,信号的高频匹配晶体频率。
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