[实用新型]一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统有效
申请号: | 201720763445.4 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN206970710U | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 朱选敏;郭爱云;李烁 | 申请(专利权)人: | 武汉科瑞达真空科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙)11368 | 代理人: | 郭官厚 |
地址: | 430075 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统,包括进片移动架、上片架、回片架、下片架、出片移动架及管道,还包括由安装在底架上的进片真空腔、进片粗真空缓冲腔、进片高真空缓冲腔、进片过渡真空腔、镀膜工艺真空腔、出片过渡真空腔、出片高真空缓冲腔、出片粗真空缓冲腔、出片真空腔依次胶圈密封连接组成,所述每个腔体正面安装有通过胶圈密封的维修门,所述进片真空腔和进片粗真空缓冲腔右侧分别安装有一个进片抽气系统和一个进片粗真空抽气系统;本专利连续镀膜生产线为九段真空结构,可以实现有快速的从大气状态下抽气到真空镀膜真空状态;并实现连续批量生产,生产效率高,故障率小。 | ||
搜索关键词: | 一种 显示屏 模组 连续 磁控溅射 镀膜 真空 系统 | ||
【主权项】:
一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统,包括进片移动架1、上片架2、回片架14、下片架12、出片移动架13及管道20,其特征在于:还包括由安装在底架上的进片真空腔3、进片粗真空缓冲腔4、进片高真空缓冲腔5、进片过渡真空腔6、镀膜工艺真空腔7、出片过渡真空腔8、出片高真空缓冲腔9、出片粗真空缓冲腔10、出片真空腔11依次胶圈密封连接组成,所述每个腔体正面安装有通过胶圈密封的维修门33,所述进片真空腔3和进片粗真空缓冲腔4右侧分别安装有一个进片抽气系统31和一个进片粗真空抽气系统41;所述出片粗真空缓冲腔10和出片真空腔11右侧还分别安装有一个出片粗真空抽气系统15和出片抽气系统16。
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