[发明专利]一种薄膜组分在薄膜表面方向连续变化的多激光沉积薄膜的方法在审
申请号: | 201711461103.8 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN108193176A | 公开(公告)日: | 2018-06-22 |
发明(设计)人: | 程勇;陆益敏;郭延龙;黄国俊;万强;刘旭;黎伟;田方涛 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军陆军工程大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/02;C23C14/54 |
代理公司: | 武汉宇晨专利事务所 42001 | 代理人: | 王敏锋 |
地址: | 430073 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜组分在薄膜表面方向连续变化的多激光沉积薄膜的方法,该方法采用多激光束同时烧蚀不同靶材,形成相应等离子体,所有激光烧蚀点呈直线排列,位于这些等离子体前方的衬底直接地接收各种粒子,在其表面形成组分比例不均匀的多组分薄膜。由于激光烧蚀靶材形成的等离子体极不均匀,呈圆锥形连续渐变分布,因此衬底上的多组分薄膜在衬底表面上呈现表面不同位置各组分含量连续渐变的分布形态:越接近多激光束产生的等离子体的合成中心,各组分含量越接近;越靠近某一激光束产生的等离子体的轴线,该激光束烧蚀的靶材组分在膜层中的含量越高,保证了多组分薄膜内部组分比例连续变化的有序性和一个方向上的均匀性,便于测试和分析。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 激光束 薄膜 多组分薄膜 靶材 薄膜表面 激光沉积 激光烧蚀 不均匀 衬底 烧蚀 测试和分析 表面形成 衬底表面 分布形态 渐变分布 直线排列 均匀性 渐变 膜层 粒子 合成 保证 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜组分在薄膜表面方向连续变化的多激光沉积薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)清洗衬底;(2)调试激光:衬底放置在靶材前方,启动激光器,发射2~3束激光束,经聚焦分别烧蚀真空室内相应数量的靶材,产生各自相应的等离子体,调整各激光束在对应靶材上的烧蚀位置,呈直线分布,调整结束后关闭激光器;(3)沉积:在真空条件或者一定气压的环境气氛下,使用2~3束激光光束,分别烧蚀对应的靶材,并调整各激光束的参数,使脉冲激光束照射在靶材表面,沉积1~200min从而在衬底上沉积出薄膜表面方向组分连续变化的薄膜;所述衬底沿垂直于激光烧蚀点连线的方向做往复直线运动,往复频率低于脉冲激光重复频率十分之一以下。
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